特許
J-GLOBAL ID:201503096555635109
パージ装置及びパージ方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
塩入 明
, 塩入 みか
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-211253
公開番号(公開出願番号):特開2015-076480
出願日: 2013年10月08日
公開日(公表日): 2015年04月20日
要約:
【課題】 パージガスの昇温を許容範囲内に抑制する。【構成】 配管を流れるパージガスの流量を流量制御装置により制御すると共に、流量制御装置からの熱を放熱部材により放熱し、パージガスの昇温を抑制する。【選択図】 図3
請求項(抜粋):
配管からパージガスを供給するパージ装置において、
前記配管を流れるパージガスの流量を制御する流量制御装置と、
前記流量制御装置で発生した熱を放熱する放熱部材、とを有することを特徴とする、パージ装置。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (11件):
5F131AA02
, 5F131CA02
, 5F131GA14
, 5F131GB02
, 5F131GB14
, 5F131GB29
, 5F131JA05
, 5F131JA14
, 5F131JA24
, 5F131JA40
, 5F131KA25
引用特許:
審査官引用 (5件)
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物品保管設備
公報種別:公開公報
出願番号:特願2012-000205
出願人:株式会社ダイフク
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電子制御装置の放熱構造
公報種別:公開公報
出願番号:特願2007-322413
出願人:本田技研工業株式会社
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MFCインストーラ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-125194
出願人:シーケーディ株式会社
-
処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-136510
出願人:東京エレクトロン株式会社
-
分子状汚染制御システム
公報種別:公表公報
出願番号:特願平10-513670
出願人:セミファブ
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