特許
J-GLOBAL ID：201503098809175793

荷電粒子リソグラフィシステムおよびビーム発生器

発明者：
ファン・フェーン、アレクサンダー・ヘンドリク・ビンセント

ファン・フェーン、アレクサンダー・ヘンドリク・ビンセント について

, 
ウルバヌス、ウィレム・ヘンク

ウルバヌス、ウィレム・ヘンク について


出願人/特許権者：
マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ.

マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ. について


代理人 (8件)： 蔵田 昌俊 ,  野河 信久 ,  峰 隆司 ,  河野 直樹 ,  砂川 克 ,  佐藤 立志 ,  岡田 貴志 ,  堀内 美保子
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-512040
公開番号（公開出願番号）：特表2015-517735
出願日： 2013年05月14日
公開日（公表日）： 2015年06月22日
要約：
本発明は、ターゲットの露出のための荷電粒子リソグラフィシステムに関する。システムは、荷電粒子ビームを生成するための荷電粒子ビーム発生器と、荷電粒子ビームから複数のビームレットを形成するための開口アレイ(6)と、ビームレットをターゲットの表面上に投影するためのビームレット投影器(12)を有している。荷電粒子ビーム発生器は、発散荷電粒子ビームを生成するための荷電粒子発生源(3)と、発散荷電粒子ビームを屈折させるためのコリメーターシステム(5a,5b,5c,5d;72;300)と、コリメーターシステムから熱を取り除くための冷却装置(203)を備えており、冷却装置は、コリメーターシステムの少なくとも一部を取り囲んでいる本体を備えている。
請求項（抜粋）：
ターゲット(13)を露出するための荷電粒子リソグラフィシステム(1)であって、 ・荷電粒子ビームを生成するための荷電粒子ビーム発生器と、 ・前記荷電粒子ビームから複数のビームレットを形成するための開口アレイ(6)と、 ・前記ビームレットをターゲットの表面上に投影するためのビームレット投影器(12)を備えており、 前記荷電粒子ビーム発生器は、 ・発散荷電粒子ビームを生成するための荷電粒子発生源(3)と、 ・前記発散荷電粒子ビームを屈折させるためのコリメーターシステム(5a,5b,5c,5d;72;300)と、 ・前記コリメーターシステムから熱を取り除くための冷却装置(203)を備えており、前記冷却装置は、前記コリメーターシステムの少なくとも一部を取り囲んでいる本体を備えている、リソグラフィシステム。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ,  H01J 37/305 ,  H01J 37/07 ,  H01J 37/12
FI (5件)：
H01L21/30 541W ,  H01L21/30 541B ,  H01J37/305 B ,  H01J37/07 ,  H01J37/12
Fターム (12件)：
5C030BB17 ,  5C033CC01 ,  5C033CC06 ,  5C034BB01 ,  5F056AA07 ,  5F056CB05 ,  5F056CB40 ,  5F056DA24 ,  5F056EA02 ,  5F056EA03 ,  5F056EA05 ,  5F056EA06
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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