特許
J-GLOBAL ID：201603001376450284
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-084445
公開番号（公開出願番号）：特開2012-226337
特許番号：特許第5981196号
出願日： 2012年04月03日
公開日（公表日）： 2012年11月15日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 (A1)式(I)で表される構造単位を有する樹脂、
(A2)アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、
(B)酸発生剤及び
(D)式(IA)で表されるアニオン及び有機スルホニウムカチオンを有する塩を含有するレジスト組成物。
[式(I)中、
R1は、水素原子又はメチル基を表す。
A1は、-(CH2)m1-、-(CH2)m2-O-(CH2)m3-又は-(CH2)m4-CO-O-(CH2)m5-を表す。
m1〜m5は、それぞれ独立に、1〜6の整数を表す。
R2は、フッ素原子を有する炭素数1〜10の炭化水素基を表す。]
[式(IA)中、
R1A及びR2Aは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜12の脂肪族炭化水素基、炭素数3〜20の脂環式炭化水素基、炭素数6〜20の芳香族炭化水素基又は炭素数7〜21のアラルキル基を表し、該脂肪族炭化水素基、該脂環式炭化水素基、該芳香族炭化水素基及びアラルキル基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、シアノ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基又はニトロ基で置換されていてもよく、該脂肪族炭化水素基に含まれる-CH2-は-O-又は-CO-で置き換わっていてもよく、R1A及びR2Aは互いに結合してNとともに炭素数4〜20の環を形成してもよい。]
IPC (3件)：
G03F 7/004 ( 200 6.01)
, G03F 7/039 ( 200 6.01)
, C08F 20/24 ( 200 6.01)
G03F 7/004 501
, G03F 7/039 601
, G03F 7/004 503 A
, C08F 20/24
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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