位相差干渉顕微装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人日峯国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-246504
公開番号（公開出願番号）：特開2016-109834
出願日： 2014年12月05日
公開日（公表日）： 2016年06月20日
要約：

【課題】波長を上回る厚さのある標本でも、干渉像に位相の飛びが起こらない位相差干渉顕微装置を提供する。【解決手段】光源110で発生させた光600を分割用ビームスプリッタ250で照明光610と参照光640に分割する発生光学系200と、照明光610を被検体130に照射する照明光学系300と、照明光610のうち被検体130を透過した透過光620と被検体130から出た物体光630をレンズ410でフーリエ変換し、空間光変調器420で被検体130の空間周波数スペクトルに対して位相変化を与え、再度レンズ430、440、460でフーリエ変換した上で、合成用ビームスプリッタ470を介して受光素子140に照射する測定光学系400と、参照光640を合成用ビームスプリッタ470で透過光620及び物体光630と合成させる参照光学系500と、受光素子140で取得した光を画像処理して可視化する制御処理系700とを備える。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

光源で発生させた光を分割用ビームスプリッタで照明光と参照光に分割する発生光学系と、前記照明光を被検体に照射する照明光学系と、前記照明光のうち前記被検体を透過した透過光と前記被検体から出た物体光をレンズでフーリエ変換し、空間光変調器で前記被検体の空間周波数スペクトルに対して位相変化を与え、再度レンズでフーリエ変換した上で、合成用ビームスプリッタを介して受光素子に照射する測定光学系と、前記参照光を前記合成用ビームスプリッタで前記透過光及び前記物体光と合成させる参照光学系と、前記受光素子で取得した光を画像処理して可視化する制御処理系と、を備える、ことを特徴とする位相差干渉顕微装置。

IPC (4件)：

G02B 21/00 , G01B 11/24 , G01B 11/00 , G01N 21/17

FI (5件)：

G02B21/00 , G01B11/24 D , G01B11/00 G , G01B11/00 B , G01N21/17 A

Fターム (46件)：

2F065AA04 , 2F065AA53 , 2F065BB22 , 2F065CC16 , 2F065DD06 , 2F065FF52 , 2F065GG04 , 2F065JJ03 , 2F065JJ26 , 2F065LL04 , 2F065LL12 , 2F065LL30 , 2F065LL35 , 2F065LL36 , 2F065LL53 , 2F065QQ03 , 2F065QQ16 , 2F065SS13 , 2G059AA05 , 2G059BB14 , 2G059EE01 , 2G059EE05 , 2G059EE09 , 2G059FF03 , 2G059GG01 , 2G059JJ11 , 2G059JJ13 , 2G059JJ19 , 2G059JJ20 , 2G059JJ22 , 2G059JJ23 , 2G059KK04 , 2G059MM01 , 2G059MM10 , 2H052AA03 , 2H052AA04 , 2H052AB01 , 2H052AB26 , 2H052AC02 , 2H052AC05 , 2H052AC18 , 2H052AC27 , 2H052AC34 , 2H052AF14 , 2H052AF21 , 2H052AF25

引用特許：

審査官引用 (6件)

位相差顕微鏡装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-117095 出願人：ソニー株式会社
位相測定用システムと方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2006-517372 出願人：マサチユセツツ・インスチチユート・オブ・テクノロジイ
透過光測定装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-033543 出願人：株式会社生体光情報研究所, 丹野直弘, 市村勉

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