特許
J-GLOBAL ID：201603001558723375
超純水製造装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
宮崎 昭夫
, 緒方 雅昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-193933
公開番号（公開出願番号）：特開2016-064342
出願日： 2014年09月24日
公開日（公表日）： 2016年04月28日
要約：
【課題】被処理水からの微粒子除去に関する高性能化及び高信頼化を達成し得る超純水製造装置を提供すること。【解決手段】超純水製造装置の有する被処理水の処理経路末端又はその近傍配置用の限外ろ過膜装置において、限外ろ過膜モジュールを複数段直列配置する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
限外ろ過膜装置を有する超純水製造装置であって、
前記限外ろ過膜装置は、複数個の限外ろ過膜モジュールが直列に接続されていることを特徴とする超純水製造装置。
IPC (3件)：
C02F 1/44
, B01D 61/58
, B01D 61/18
C02F1/44 J
, B01D61/58
, B01D61/18
4D006GA06
, 4D006GA32
, 4D006HA01
, 4D006HA95
, 4D006KA01
, 4D006KA52
, 4D006KA55
, 4D006KA56
, 4D006KB04
, 4D006KB11
, 4D006KE04Q
, 4D006MA01
, 4D006MB05
, 4D006MC62
, 4D006PA01
, 4D006PB02
, 4D006PB04
, 4D006PB05
, 4D006PB24
