特許
J-GLOBAL ID：201603001751091041
表面形状測定装置及び表面形状測定方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松浦 憲三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-036289
公開番号（公開出願番号）：特開2016-164557
出願日： 2016年02月26日
公開日（公表日）： 2016年09月08日
要約：
【課題】測定対象物の被測定面が複雑な形状を有する場合等のように反射率が一定でない場合でも、被測定面の表面形状(3次元形状)を高感度かつ高精度に測定することができる表面形状測定装置及び表面形状測定方法を提供する。【解決手段】表面形状測定装置1は、光源部12の動作を制御することによって撮像部16から少なくとも相対的に光量が大きい第1の干渉画像と相対的に光量が小さい第2の干渉画像とをそれぞれ取得し、第1の干渉画像及び第2の干渉画像のそれぞれに基づき被測定面の各点ごとに複数のインターフェログラムを求め、複数のインターフェログラムの中から予め設定された測定レンジ内のインターフェログラムを各点ごとに選択し、選択した各点ごとのインターフェログラムに基づいて被測定面の各点の前記光軸方向の位置を検出する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
白色光を出射する光源部と、
前記光源部からの白色光を物体光と参照光とに分割して前記物体光を測定対象物の被測定面に照射し、前記被測定面から戻る前記物体光と前記参照光とを干渉させた干渉光を生成する干渉部と、
前記測定対象物に対して前記干渉部を前記物体光の光軸方向に相対的に移動する走査手段と、
前記干渉部からの前記干渉光を撮像し、前記干渉光による干渉画像を生成する撮像部と、
前記走査手段により前記測定対象物に対して前記干渉部を前記光軸方向に相対的に移動させながら前記撮像部から前記干渉画像を順次取得し、取得した前記干渉画像に基づいて前記被測定面の各点ごとのインターフェログラムを求め、前記各点ごとの前記インターフェログラムに基づいて前記被測定面の各点の前記光軸方向の位置を検出する処理部と、
前記光源部又は前記撮像部の動作を制御する制御手段と、
を備え、
前記処理部は、前記制御手段により前記光源部又は前記撮像部の動作を制御することによって前記撮像部から少なくとも相対的に光量が大きい第1の干渉画像と相対的に光量が小さい第2の干渉画像とをそれぞれ取得し、前記第1の干渉画像及び前記第2の干渉画像のそれぞれに基づき前記各点ごとに複数のインターフェログラムを求め、前記複数のインターフェログラムの中から予め設定された測定レンジ内のインターフェログラムを前記各点ごとに選択し、選択した前記各点ごとのインターフェログラムに基づいて前記被測定面の各点の前記光軸方向の位置を検出する表面形状測定装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (15件)：
2F065AA06
, 2F065AA53
, 2F065BB13
, 2F065DD04
, 2F065FF52
, 2F065GG02
, 2F065GG07
, 2F065GG24
, 2F065JJ03
, 2F065JJ26
, 2F065QQ25
, 2F065QQ28
, 2F065QQ29
, 2F065QQ31
, 2F065UU01
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (6件)
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