特許
J-GLOBAL ID：201603002542150797
蒸着マスクの製造方法、蒸着マスクを作製するために用いられる金属板および蒸着マスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
勝沼 宏仁
, 永井 浩之
, 堀田 幸裕
, 岡村 和郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-253466
公開番号（公開出願番号）：特開2016-113668
出願日： 2014年12月15日
公開日（公表日）： 2016年06月23日
要約：
【課題】基板に付着した蒸着材料の厚みや面積がばらついてしまうことを抑制することができる蒸着マスクを製造する方法を提供する。【解決手段】蒸着マスクを作製するために用いられる金属板は、第1層と、第1層よりも金属板の第2面側に位置する第2層と、を含んでいる。第2エッチング液を用いたエッチングによって金属板の第2面に形成される第2凹部は、第2層を貫通するように形成される。また、第1エッチング液を用いたエッチングによって金属板の第1面に第1凹部を形成する第1面エッチング工程は、第2凹部と第1凹部とが互いに通じ合い、これによって貫通孔が形成されるようになるまで実施される。また、金属板の第1面に第1凹部を形成するために用いられる第1エッチング液に対する第2層の溶解速度は、第1エッチング液に対する第1層の溶解速度よりも小さくなっている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
複数の貫通孔が形成された蒸着マスクを製造する方法であって、
第1面および前記第1面の反対側に位置する第2面を含む金属板を準備する工程と、
前記金属板の前記第1面上に第1レジストパターンを形成し、前記金属板の前記第2面上に第2レジストパターンを形成する工程と、
前記金属板の前記第2面のうち前記第2レジストパターンによって覆われていない領域を、第2エッチング液を用いてエッチングし、前記金属板の前記第2面に第2凹部を形成する第2面エッチング工程と、
前記金属板の前記第1面のうち前記第1レジストパターンによって覆われていない領域を、第1エッチング液を用いてエッチングし、前記金属板の前記第1面に第1凹部を形成する第1面エッチング工程と、を備え、
前記金属板は、第1層と、前記第1層よりも前記金属板の前記第2面側に位置する第2層と、を含み、
前記第2面エッチング工程は、前記第2凹部が前記金属板の前記第2層を貫通するようになるまで少なくとも実施され、
前記第1面エッチング工程は、前記第2凹部と前記第1凹部とが互いに通じ合い、これによって前記貫通孔が形成されるようになるまで実施され、
前記第1エッチング液に対する前記金属板の前記第2層の溶解速度は、前記第1エッチング液に対する前記金属板の前記第1層の溶解速度よりも小さくなっている、蒸着マスクの製造方法。
IPC (4件)：
C23C 14/04
, C23C 14/24
, H05B 33/10
, H01L 51/50
C23C14/04 A
, C23C14/24 G
, H05B33/10
, H05B33/14 A
3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107CC33
, 3K107FF15
, 3K107GG04
, 3K107GG33
, 4K029AA09
, 4K029AA24
, 4K029BA62
, 4K029BB03
, 4K029BD01
, 4K029CA01
, 4K029DB06
, 4K029DB18
, 4K029HA02
, 4K029HA03
