特許
J-GLOBAL ID：201603004763217473
膜厚および膜密度決定方法、ならびにそのためのプログラム
出願人/特許権者：
代理人 (3件)： 特許業務法人磯野国際特許商標事務所 , 磯野 道造 , 多田 悦夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-002121
公開番号（公開出願番号）：特開2014-134441
特許番号：特許第6031359号
出願日： 2013年01月09日
公開日（公表日）： 2014年07月24日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板上に製膜されている薄膜について測定されたX線回折強度の複数のピークのピーク角度の測定値に基づいて、前記薄膜の膜厚および膜密度を決定する膜厚および膜密度決定方法であって、
前記X線回折強度の複数のピーク角度の測定値のいずれかと、前記複数のピーク角度それぞれに対して予め設定されたピーク次数と、薄膜の膜厚と、薄膜の密度依存量と、測定に用いたX線測定装置のX線管球波長と、の間の予め定められた関係式を用いて、前記測定されたX線回折強度の複数のピークの中から選択された任意の2つのピークに対して前記関係式を適用して、膜厚および密度依存量を未知数とする2元連立方程式をたてて膜厚および密度依存量を算出する膜理論値算出ステップと、
前記測定されたX線回折強度の複数のピークのうち前記選択された2つのピークを除いて計算対象とする他のピークに対して、前記膜理論値算出ステップで算出された膜厚および密度依存量を既知として前記関係式に適用することで、当該ピークに対するピーク角度の計算値をそれぞれ求めるピーク角度計算値算出ステップと、
前記計算対象とする各ピークについて、前記ピーク角度の測定値と前記ピーク角度の計算値との差分の2乗平均を求める2乗平均算出ステップと、
前記ピーク次数の異なる組を設定した上で前記膜理論値算出ステップを繰り返し、当該繰り返しにより複数回算出した前記2乗平均のうち値が最小になるときに設定されているピーク次数の組と、当該ピーク次数の組にて求められた膜厚および密度依存量とを採用し、前記測定された薄膜の膜厚および膜密度として決定する決定ステップと、
を有することを特徴とする膜厚および膜密度決定方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
出願人引用 (4件)
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試料測定装置
公報種別：公開公報 出願番号：特願平10-007710 出願人：キヤノン株式会社 -
X線反射率測定用試料ホルダ及びこれを用いたX線反射率測定方法
公報種別：公開公報 出願番号：特願平4-182486 出願人：株式会社リコー -
X線測定装置
公報種別：公開公報 出願番号：特願平11-241235 出願人：理学電機株式会社
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