特許
J-GLOBAL ID：201603005719458567
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-033537
公開番号（公開出願番号）：特開2012-190003
特許番号：特許第6034025号
出願日： 2012年02月20日
公開日（公表日）： 2012年10月04日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 (A1)式(I)で表される構造単位を有する樹脂、
(A2)アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び、
(B)式(II)で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。
[式(I)中、
R1は、水素原子又はメチル基を表す。
A1は、炭素数1〜6のアルカンジイル基を表す。
R2は、フッ素原子を有する炭素数1〜10の炭化水素基を表す。]
[式(II)中、
Q1及びQ2は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。
L1は、*-CO-O-La-又は*-CH2-O-Lb-を表す。*は-C(Q1)(Q2)-との結合手を表す。La及びLbは、互いに独立に、2価の炭素数1〜15の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-で置き換わっていてもよい。
環W1は、前記L1と結合する窒素原子と炭素数2〜36の炭化水素基とから形成される複素環であり、該複素環構造を形成する-CH2-は、-O-で置き換わっていてもよい。
Z+は、有機カチオンを表す。]
IPC (3件)：
G03F 7/004 ( 200 6.01)
, G03F 7/039 ( 200 6.01)
, C08F 20/22 ( 200 6.01)
G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503 A
, G03F 7/039 601
, C08F 20/22
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (6件)
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