特許

J-GLOBAL ID：201203038450407842

光酸発生剤およびこれを含むフォトレジスト

発明者： ヤン・チョル・ペ ,  トーマス・カルドラッシア ,  イ・リュー
出願人/特許権者： ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.
代理人 (1件)： 特許業務法人センダ国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-098236
公開番号（公開出願番号）：特開2012-031134
出願日： 2011年04月26日
公開日（公表日）： 2012年02月16日
要約：

【課題】新規の光酸発生剤化合物(PAG)およびこのPAG化合物を含むフォトレジスト組成物の提供。【解決手段】ラクタム、アミドまたはイミドのような構造-C(=O)N<の窒素ベースの官能性成分を含む新規のイオン性光酸発生剤化合物。特に好ましい光酸発生剤はアニオン成分がラクタム、アミドまたはイミドのような構造-C(=O)N<の部分を含む塩である。また、1種以上の本発明のPAGを含むフォトレジスト組成物も提供される。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

構造-C(=O)N<を含む光酸発生剤化合物。

IPC (4件)：

C07D 207/27 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  C09K 3/00

FI (4件)：

C07D207/27 Z ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  C09K3/00 K

Fターム (28件)：

2H125AF17P ,  2H125AF38P ,  2H125AF70P ,  2H125AH17 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AL03 ,  2H125AL11 ,  2H125AM66P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN56P ,  2H125AN57P ,  2H125AP02P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4C069AB12 ,  4C069BB02 ,  4C069BB17 ,  4C069BC12

引用特許：

審査官引用 (8件)

• 感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる化合物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-009840   出願人：富士フイルム株式会社
• 感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-262499   出願人：富士写真フイルム株式会社
• パターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物、及び、レジスト膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-031437   出願人：富士フイルム株式会社
• 酸発生剤用の塩及びレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-220640   出願人：住友化学株式会社
• 感活性光線または感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-311431   出願人：富士フイルム株式会社
• ポジ型感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-239108   出願人：富士フイルム株式会社
• 感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-015965   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 塩、フォトレジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-001782   出願人：住友化学株式会社