特許
J-GLOBAL ID：201603006570996567
MEMS装置及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人スズエ国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-057278
公開番号（公開出願番号）：特開2014-180732
特許番号：特許第5908422号
出願日： 2013年03月19日
公開日（公表日）： 2014年09月29日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 支持基板上に設けられた第1の電極と、
前記第1の電極の周辺部に埋め込まれた埋め込み絶縁膜と、
前記第1の電極に対向配置され、端部が第1の電極の端部よりも外側にはみ出すように設けられ、且つ前記第1の電極との対向方向に可動可能に設けられた第2の電極と、
前記支持基板上に設けられ、前記第2の電極を弾性的に支持する梁部と、
を具備し、
前記埋め込み絶縁膜は、シリコン酸化膜とシリコン窒化膜からなる積層膜であることを特徴とするMEMS装置。
IPC (5件)：
B81B 7/02 ( 200 6.01)
, B81C 1/00 ( 200 6.01)
, H01G 5/16 ( 200 6.01)
, H01H 59/00 ( 200 6.01)
, H01H 49/00 ( 200 6.01)
B81B 7/02
, B81C 1/00
, H01G 5/16
, H01H 59/00
, H01H 49/00 L
出願人引用 (6件)
全件表示
審査官引用 (6件)
全件表示
前のページに戻る
