真空処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：岩田今日文 , 間野日出男
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-110585
公開番号（公開出願番号）：特開2012-255207
特許番号：特許第5832372号
出願日： 2012年05月14日
公開日（公表日）： 2012年12月27日
請求項（抜粋）：

【請求項1】被処理材を保持するキャリアと、該キャリアを多角形状の搬送路に沿って搬送する搬送装置と、前記被処理材に対して所定の真空処理を行うよう搬送路に沿って配置された複数のプロセスチャンバと、前記多角形状の搬送路の角の部分に配置され、前記キャリアの向きを転換する方向転換チャンバとを有する真空処理装置であって、複数の前記方向転換チャンバ内で、前記キャリアに未処理の前記被処理材を移載され、若しくは、前記キャリアから処理済みの前記被処理材を取り外されることを特徴とする真空処理装置。

IPC (3件)：