特許
J-GLOBAL ID：201603007988838468
チタン及びシリコン含有リソグラフィー用薄膜形成組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
萼 経夫
, 宮崎 嘉夫
, 加藤 勉
, 伴 知篤
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-524753
特許番号：特許第5999372号
出願日： 2012年07月20日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 下記式(1):
[式(1)において、R0はアルキル基、アリール基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン
化アリール基、アルケニル基、又はエポキシ基、アクリロイル基、メタクリロイル基、メルカプト基、アミノ基、もしくはシアノ基を有する有機基であり且つTi-C結合によりチタン原子と結合している有機基を表し、R1はアルコキシ基、アシルオキシ基、又はハ
ロゲン原子を表す。aは0乃至2の整数を表す。]で表される化合物、チタンキレート化合物、及び加水分解性チタンダイマーからなる群から選ばれるチタン化合物(A)と、
下記式(2):
[式(2)において、R2は窒素原子含有環基若しくはそれを含む有機基、縮合芳香族環
基若しくはそれを含む有機基、保護されたフェノール性ヒドロキシ基若しくはそれを含む有機基、又はビフェニル基を表し且つこれらの基は各々Si-C結合によりケイ素原子と結合しており、R3はアルキル基、アリール基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリ
ール基、アルケニル基、又はエポキシ基、アクリロイル基、メタクリロイル基、メルカプト基、アミノ基、もしくはシアノ基を有する有機基であり且つSi-C結合又はSi-N結合によりケイ素原子と結合している有機基を表し、R4はアルコキシ基、アシルオキシ
基、又はハロゲン原子を表す。a’は1の整数を表し、bは0又は1の整数を表し、(a’+b)は1又は2の整数を表す。]で表されるシリコン化合物(B)との混合物、その混合物の加水分解物、又はその混合物の加水分解縮合物を含む組成物であって、該組成物
中のTi原子とSi原子に換算した合計モル数に対してTi原子のモル数が50%乃至90%である、リソグラフィー工程でレジストと共に用いる薄膜形成組成物。
IPC (2件)：
G03F 7/11 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
G03F 7/11 502
, G03F 7/11 503
, H01L 21/30 573
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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