特許
J-GLOBAL ID：201603008382835370

組成分析システムのためのレーザアブレーションセル及びトーチシステム

発明者：
シャープ,バリー,エル

シャープ,バリー,エル について

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ダグラス,デビッド,エヌ

ダグラス,デビッド,エヌ について

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マナグ,エイミー,ジェイ

マナグ,エイミー,ジェイ について


出願人/特許権者：
エレクトロ サイエンティフィック インダストリーズ インコーポレーテッド

エレクトロ サイエンティフィック インダストリーズ インコーポレーテッド について


代理人 (2件)： 森 友宏 ,  桑原 宏光
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-558111
公開番号（公開出願番号）：特表2016-513254
出願日： 2014年02月12日
公開日（公表日）： 2016年05月12日
要約：
レーザアブレーションシステムは、その内部空間106にターゲット104を収容するように構成された試料チャンバ102と、(その後試料として捕捉され得る)ターゲット104の一部を除去するように構成された試料生成部108と、試料の組成を分析するように構成された分析システム110とを含んでいる。ターゲットに近接したチャンバの試料捕捉セルは、ターゲット材料を受け入れるように構成された捕捉キャビティと、捕捉セルの外側に隣接した第1の位置からキャリアガスの流れを捕捉キャビティの一領域に送るように構成された第1の流入口と、捕捉キャビティの他の領域からのキャリアガスを受け入れるように構成された流出口とを有している。試料チャンバ102は、キャリアガスのような流体を内部空間106に導入するように構成された噴射ノズル120を含んでいる。
請求項（抜粋）：
ターゲットのレーザアブレーション位置から除去されたターゲット材料を処理する装置であって、 前記ターゲットに近接して配置されるように構成された試料捕捉セルを備え、 前記試料捕捉セルは、 前記捕捉セルの表面に形成された開口を有する捕捉キャビティであって、前記試料捕捉セルが前記ターゲットに近接しているときに、前記レーザアブレーション位置から放出又は生成されたターゲット材料を前記開口を介して受け入れるように構成された捕捉キャビティと、 前記捕捉キャビティと流体連通する第1の流入口であって、前記捕捉セルの外部空間に隣接する第1の位置からキャリアガスの流れを前記捕捉キャビティの領域に送るように構成された第1の流入口と、 前記捕捉キャビティと流体連通する流出口であって、前記捕捉キャビティの他の領域からキャリアガスを受け入れるように構成された流出口と、 前記捕捉キャビティ内に露出するガイド壁であって、前記捕捉キャビティ内に受け入れられた前記ターゲット材料の少なくとも一部を試料として前記流出口に送れるように前記第1の流入口と前記流出口との間の前記捕捉キャビティ内で前記キャリアガスの流れを案内するように構成されたガイド壁と、 を含む、 装置。
IPC (5件)：
G01N 27/62 ,  G01N 27/64 ,  G01N 21/73 ,  B01J 19/08 ,  B01J 19/12
FI (5件)：
G01N27/62 F ,  G01N27/64 B ,  G01N21/73 ,  B01J19/08 E ,  B01J19/12 B
Fターム (50件)：
2G041CA01 ,  2G041DA14 ,  2G041EA01 ,  2G041FA02 ,  2G041FA06 ,  2G041FA10 ,  2G041FA16 ,  2G041GA15 ,  2G041GA17 ,  2G041GA20 ,  2G043AA01 ,  2G043BA01 ,  2G043BA16 ,  2G043CA05 ,  2G043DA05 ,  2G043EA08 ,  2G043GA07 ,  2G043GB01 ,  2G043GB02 ,  2G043GB03 ,  2G043GB07 ,  2G043GB09 ,  2G043GB16 ,  2G043JA01 ,  4G075AA03 ,  4G075AA13 ,  4G075AA27 ,  4G075AA61 ,  4G075BB10 ,  4G075BD01 ,  4G075CA36 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075DA13 ,  4G075DA18 ,  4G075EB31 ,  4G075EB43 ,  4G075EC01 ,  4G075EC06 ,  4G075EC09 ,  4G075EC25 ,  4G075ED01 ,  4G075ED20 ,  4G075FB01 ,  4G075FB02 ,  4G075FB04 ,  4G075FB06 ,  4G075FB12 ,  4G075FB20 ,  4G075FC11
引用特許：
審査官引用 (5件)
  • 元素分析用プラズマトーチ及びこれを用いた元素分析方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-135366   出願人：株式会社日立製作所
  • ICP分析装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-009358   出願人：株式会社島津製作所
  • 誘導結合プラズマトーチ
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-221292   出願人：独立行政法人産業技術総合研究所, 横河アナリティカルシステムズ株式会社
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