特許

J-GLOBAL ID：201603016110238791

リアルタイムレチクル曲率検出

発明者： ワード、クリストファー ,  レーンダース、マルティヌス ,  シュースター、マーク ,  ヴァレンティン、クリスティアーン
出願人/特許権者： エーエスエムエル ホールディング エヌ.ブイ. ,  エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
代理人 (2件)： 森下 賢樹 ,  青木 武司
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-528935
特許番号：特許第6009081号
出願日： 2013年08月01日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 パターン放射ビームを目標に投影するよう構成されるリソグラフィシステムであって、 前記リソグラフィシステムは、レチクルを保持するレチクルサポートを備え、前記レチクルは、使用前において互いに平行な平面である二つの対向する主面を有し、前記レチクルの前記二つの対向する主面は、使用前であって前記レチクルサポートに取り付けられるときに基準面と実質的に平行であり、前記レチクルは、放射ビームの断面にパターンを付与するように構成されており、 前記レチクルは、前記二つの対向する主面間の第1エッジと、前記二つの対向する主面間の第2エッジとを有し、前記第2エッジは、前記第1エッジの反対側であって前記第1エッジから実質的に所定の距離に位置し、 前記リソグラフィシステムは、前記レチクルサポートにより保持されている前記レチクルの曲率を決定するよう構成されるサブシステムを備え、 前記サブシステムは、 前記基準面と、前記レチクルの使用中に実質的に前記第1エッジにて前記二つの対向する主面の特定の一方と接する第1平面との第1相対方向を、前記第1エッジにて検出するように構成される第1センサシステムと、 前記基準面と、前記レチクルの使用中に実質的に前記第2エッジにて前記二つの対向する主面の特定の一方と接する第2平面との第2相対方向を、前記第2エッジにて検出するように構成される第2センサシステムと、を備え、 前記サブシステムは、前記所定の距離と、前記第1相対方向と、前記第2相対方向とから前記曲率を決定するように構成されるリソグラフィシステム。

IPC (5件)：

G03F 7/207 ( 200 6.01) ,  G03F 7/20 ( 200 6.01) ,  H01L 21/68 ( 200 6.01) ,  G01B 21/20 ( 200 6.01) ,  G01B 7/293 ( 200 6.01)

FI (5件)：

G03F 7/207 H ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68 F ,  G01B 21/20 A ,  G01B 7/293

引用特許：

審査官引用 (4件)

• レチクルステージ及びレチクルの面形状補正方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-282802   出願人：松下電器産業株式会社
• リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-047062   出願人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
• リソグラフィ装置、ならびに基板非平坦性を補償する方法、パターニングデバイス非平坦性の影響を求める方法、およびパターニングデバイスへの熱負荷の影響を求める方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-258575   出願人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
• 光学的に補償された一方向レチクルベンダ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-284614   出願人：エーエスエムエルホールディングエヌ.ブイ.