特許
J-GLOBAL ID：201003022475773233
光学的に補償された一方向レチクルベンダ
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-284614
公開番号（公開出願番号）：特開2010-157714
出願日： 2009年12月16日
公開日（公表日）： 2010年07月15日
要約：
【課題】基板上への放射ビームの焦点制御における誤差を低減すること。【解決手段】リソグラフィ装置によって提供されるパターニングの、パターニングされる基板のトポロジに起因する焦点誤差が光学的に修正される。基板のマップされたトポロジに基づいてレチクルをスキャン軸の周りに湾曲させることにより、交差スキャン方向の焦点制御が提供される。湾曲は、レチクルをスキャンする際に、フィールドからフィールドまで更新することができる。湾曲は一方向(たとえば下向きのみ)であってもよいが、ビーム波面に対して正または負のいずれかの曲率(あるいはゼロ曲率)を導入するために、光学補償エレメント(たとえば円筒形状に研磨されたレンズまたはミラー、あるいは力アクチュエータによって円筒形状に湾曲した透明なプレートまたはミラー)を含むことができ、それによりベンダのメカトロニクスが単純化される。【選択図】図13
請求項（抜粋）：
パターンを有し、前記パターンの少なくとも一部を、入射する放射ビームに付与するように構成された所与のパターニングデバイスをサポートするように構成され、前記パターニングデバイスを湾曲させるように構成されたベンダを含む、サポート構造と、前記パターニングデバイスと基板位置の間に配置された基板の上に前記放射ビームを投射することができる投影システムと、を備えた、パターニングデバイスハンドラを含む、
リソグラフィ装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 515F
, G03F7/20 521
5F046BA03
, 5F046CC02
, 5F046CC09
, 5F046DA05
, 5F046DA06
, 5F046DA17
