特許
J-GLOBAL ID：201003022401403779
リソグラフィ装置、ならびに基板非平坦性を補償する方法、パターニングデバイス非平坦性の影響を求める方法、およびパターニングデバイスへの熱負荷の影響を求める方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-258575
公開番号（公開出願番号）：特開2010-123950
出願日： 2009年11月12日
公開日（公表日）： 2010年06月03日
要約：
【課題】 リソグラフィ装置、基板非平坦性を補償する方法、パターニングデバイス非平坦性の影響を求める方法、およびパターニングデバイスへの熱負荷の影響を求める方法を提供する。【解決手段】 リソグラフィ装置は、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、放射ビームの断面内にパターンを付与して、パターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構築されたサポートと、基板を保持するように構築された基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分上に投影するように構成された投影システムと、サポート上に支持されたパターニングデバイスの表面の高さレベル、曲率、および/または角度を測定するように構成されたセンサとを含む。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
放射ビームを調整する照明システムと、
前記放射ビームの断面内にパターンを付与して、パターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するサポートと、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、
前記サポート上に支持された前記パターニングデバイスの表面の高さレベル、または曲率、または角度、または前述のものの任意の組合せを測定するセンサと
を備えるリソグラフィ装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 515F
, G03F7/20 521
5F046BA03
, 5F046CC02
, 5F046CC09
, 5F046CC11
, 5F046CC20
, 5F046DA06
