特許
J-GLOBAL ID：201103031560928846
リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-047062
公開番号（公開出願番号）：特開2011-192987
出願日： 2011年03月04日
公開日（公表日）： 2011年09月29日
要約：
【課題】高度な焦点整合で基板上にパターンを投影可能なリソグラフィ装置を提供する。【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成可能なパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、基板上のターゲット部分上にパターン付き放射ビームを投影するように構成された投影システムとを含む。投影システムの光学素子は調節可能である。リソグラフィ装置は、調節可能な光学素子を制御するためのコントローラを含む。コントローラは、パターニングデバイスの曲げから生じる拡大を少なくとも部分的に補償するように光学素子を駆動するように構成される。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成可能であるパターニングデバイスを支持する支持体と、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影する投影システムであって、調節可能な光学素子を含む、投影システムと、
前記パターニングデバイスにトルクまたは力を加えるアクチュエータと、
前記アクチュエータおよび前記調節可能な光学素子に接続され、前記パターニングデバイスにトルクまたは力を加えるように前記アクチュエータを駆動し、かつ、前記パターニングデバイスの曲げに従って前記調節可能な光学素子を駆動するコントローラと、を含み、
前記コントローラは、前記曲げから生じる前記パターニングデバイスの拡大を少なくとも部分的に補償するように前記調節可能な光学素子を駆動する、リソグラフィ装置。
IPC (1件)：
FI (2件)：
H01L21/30 516A
, H01L21/30 526Z
5F146DA06
, 5F146DA13
, 5F146DA14
, 5F146DB03
, 5F146DB04
, 5F146DB07
, 5F146DC05
