特許
J-GLOBAL ID：201603017181081962
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-139286
公開番号（公開出願番号）：特開2013-041243
特許番号：特許第5985898号
出願日： 2012年06月21日
公開日（公表日）： 2013年02月28日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 式(I)で表される構造単位を有する樹脂、
アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂(但し、式(I)で表される構造単位を含まない)、及び
式(II)で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。
[式(I)中、
R1は、水素原子又はメチル基を表す。
A1は、炭素数1〜6のアルカンジイル基を表す。
R2は、フッ素原子を有する炭素数1〜10の炭化水素基を表す。]
[式(II)中、
Rb1及びRb2は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。
Lb1は、炭素数1〜17の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-で置き換わっていてもよい。
環Wb1は、窒素原子を1以上有する炭素数2〜36の複素環を表す。ただし、前記窒素原子はLb1に結合しない。
Rb3は、水素原子又は炭素数1〜12の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-で置き換わっていてもよい。
Rb4は、炭素数1〜6の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-で置き換わっていてもよい。
mは、0〜6の整数を表す。
mが2以上のとき、複数存在するRb4は同一又は相異なる。
Z1+は、有機カチオンを表す。]
IPC (2件)：
G03F 7/004 ( 200 6.01)
, G03F 7/039 ( 200 6.01)
G03F 7/004 503 A
, G03F 7/039 601
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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