特許
J-GLOBAL ID：201603019890909063
光干渉断層装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
特許業務法人 谷・阿部特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-142513
公開番号（公開出願番号）：特開2016-017915
出願日： 2014年07月10日
公開日（公表日）： 2016年02月01日
要約：
【課題】高速スキャンと大きいスキャン範囲とを両立させて、2次元データ、さらには、3次元データの高速での収集を可能とする光干渉断層装置を提供する。【解決手段】被検体Tに低干渉光を出力する光源1と、前記低干渉光を2つの方向に分割して参照光L1と測定光L2として出力するビームスプリッタ2と、前記被検体に対して前記測定光を平面走査して照射する平面走査手段10と、前記参照光と前記反射光とが前記ビームスプリッタで結合した光を検出する光検出手段7と、前記光検出手段で検出された光の干渉を解析して前記被検体の光断層画像を生成する信号処理装置8とを備え、前記平面走査手段は、前記測定光の光路上に設けられた少なくとも2つの電気光学結晶41,51に電圧を印加することで当該測定光を当該電圧の印加方向と同じ方向に偏向することにより前記測定光をリサジュー図形に平面走査することを特徴とする光干渉断層装置。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
被検体に低干渉光を照射して得られる反射光を用いて該被検体の光断層画像を生成する光干渉断層装置であって、
低干渉光を出力する光源と、
前記低干渉光を2つの方向に分割して参照光と測定光として出力するビームスプリッタと、
前記被検体に対して前記測定光を平面走査して照射し、該被検体から反射された反射光を再びビームスプリッタへ入力する平面走査手段と、
前記ビームスプリッタから出力された参照光を反射して再びビームスプリッタへ入力する参照光ミラーと、
前記参照光と前記反射光とが前記ビームスプリッタで結合した光を検出する光検出手段と、
前記光検出手段で検出された光の干渉を解析して前記被検体の光断層画像を生成する信号処理装置とを備え、
前記平面走査手段は、前記測定光の光路上に設けられた少なくとも2つの電気光学結晶に電圧を印加することで当該測定光を当該電圧の印加方向と同じ方向に偏向することにより前記測定光をリサジュー図形に平面走査することを特徴とする光干渉断層装置。
IPC (4件)：
G01N 21/17
, A61B 10/00
, A61B 3/10
, G02F 1/29
G01N21/17 630
, A61B10/00 E
, A61B3/10 R
, G02F1/29
2G059AA05
, 2G059BB12
, 2G059EE01
, 2G059EE02
, 2G059EE05
, 2G059EE09
, 2G059FF02
, 2G059GG01
, 2G059GG04
, 2G059JJ05
, 2G059JJ11
, 2G059JJ13
, 2G059JJ18
, 2G059JJ22
, 2G059KK04
, 2K102AA21
, 2K102BA09
, 2K102BC04
, 2K102BC05
, 2K102BD00
, 2K102BD09
, 2K102DA01
, 2K102DC07
, 2K102DD05
, 2K102EA02
, 2K102EB10
, 2K102EB11
, 2K102EB20
