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J-GLOBAL ID:201702244393969139   整理番号:17A0606060

40GHzまでのフレキシブルマイクロストリップ線路型プローブを用いた薄膜の透磁率測定

Permeability Measurements of Thin Film Using a Flexible Microstrip Line-Type Probe Up To 40 GHz
著者 (8件):
資料名:
巻: 41  号:ページ: 25-28(J-STAGE)  発行年: 2017年 
JST資料番号: U0776A  ISSN: 1882-2932  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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表皮効果利用の高感度プローブを薄膜透磁率測定用に開発した。フレキシブル基板上の新しいマイクロストリップ線路型プローブを作製し,磁性薄膜と接触させて配置した。このプローブは信号/雑音比と広帯域測定を強化した。非晶質CoNbZr薄膜(25mm×25mm,5nm厚)の透磁率とCoFeB膜(45mm×25mm,0.5μm厚)のそれを最適化した。測定された値はLandau-Lifshits-Gilbert方程式と40GHzまでの渦電流発生を使った理論値とほぼ一死した。(翻訳著者抄録)
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著者キーワード (4件):
分類 (3件):
分類
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磁性体測定技術・装置  ,  金属の磁区及び磁化過程  ,  磁性材料 
タイトルに関連する用語 (4件):
タイトルに関連する用語
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