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J-GLOBAL ID：201702252723877997   整理番号：17A0953280

ガラスインプリンティングモールド用の高平坦化Ni-W電着物

Formation of highly planarized Ni-W electrodeposits for glass imprinting mold

著者 (6件)： YASUI Manabu (Kanagawa Industrial Technol. Center, Kanagawa, JPN) ,  KANEKO Satoru (Kanagawa Industrial Technol. Center, Kanagawa, JPN) ,  KUROUCHI Masahito (Kanagawa Industrial Technol. Center, Kanagawa, JPN) ,  ITO Hiroaki (Aoyama Gakuin Univ., Sagamihara, JPN) ,  OZAWA Takeshi (Kanagawa Industrial Technol. Center, Kanagawa, JPN) ,  ARAI Masahiro (Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 56  号： 1S  ページ： 01AB04.1-01AB04.4  発行年： 2017年01月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 全金属濃度を増加することで,均一高さと480nmピッチをもつNi-W膜およびNi-Wナノパターンを効果的に平坦化できることを確認した。同時に,Ni-W膜中のW濃度は減少した。Ni-W膜平坦度とNi-W膜中W濃度との関係を検討し,そして,全金属濃度を高めることで水素発生を効果的に抑制できることを確認した。水素ガス発生抑制によってNi-W膜平坦化が実現すること,そして,W蒸着に必要な水素発生量の削減がNi-W膜中W濃度減少の原因であることを示した。高W濃度の平坦膜を得るためには,適切な量の水素を陰極表面に発生することおよび,陰極表面から水素ガスを即座に取り除くことが必要である。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *金属薄膜 ,  二元合金 ,  *ニッケル合金 ,  タングステン含有合金 ,  *電着 ,  比率 ,  組成 ,  気体 ,  水素 ,  平坦性 ,  *改変
準シソーラス用語： 組成比 ,  水素ガス ,  *平坦化

分類 (1件)： 金属薄膜  (BK14030T)

引用文献 (32件)：

• T. Mori, Y. Kimoto, H. Kasa, K. Kintaka, N. Hotou, J. Nishii, and Y. Hirai, Jpn. J. Appl. Phys. 48, 06FH20 (2009).
• K. Yamada, M. Umetani, T. Tamura, Y. Tanaka, H. Kasa, and J. Nishii, Appl. Surf. Sci. 255, 4267 (2009).
• P.-C. Tseng, M.-A. Tsai, P. Yu, and H.-C. Kuo, Prog. Photovoltaics 20, 135 (2012).
• J. Escarré, K. Söderström, M. Despeisse, S. Nicolay, C. Battaglia, G. Bugnon, L. Ding, F. Meillaud, F.-J. Haug, and C. Ballif, Sol. Energy Mater. Sol. Cells 98, 185 (2012).
• J. Zhu, C.-M. Hsu, Z. Yu, S. Fan, and Y. Cui, Nano Lett. 10, 1979 (2010).

タイトルに関連する用語 (3件)： 平坦化 ,  Ni ,  電着物