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J-GLOBAL ID：201702263920898151   整理番号：17A1220441

非晶質窒化炭素膜の光誘起変形への窒素の寄与

Contribution of nitrogen to the photoinduced deformation of amorphous carbon nitride films

著者 (4件)： HARATA Tomo (National Defense Acad., Kanagawa, JPN) ,  AONO Masami (National Defense Acad., Kanagawa, JPN) ,  KITAZAWA Nobuaki (National Defense Acad., Kanagawa, JPN) ,  WATANABE Yoshihisa (National Defense Acad., Kanagawa, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 55  号： 1S  ページ： 01AA01.1-01AA01.4  発行年： 2016年01月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 非晶質窒化炭素(a-CN_x)膜は,可視光照射下において光誘起変形を示した。この変形に及ぼす窒素の効果を研究するために,a-CN_x膜の変形を水素フリー非晶質炭素膜のそれと比較した。膜を,矩形超薄Si基板上に堆積し,基板の曲げ曲率から推定した変形の量を得た。光誘起変形の量は,窒素組み込みにより増加した。0.3の窒素濃度(N/C)の場合に,変形は,装置の検出限界以下であった。化学結合状態の詳細な分析により,変形の量が,N/C比及びN-sp²Cと共に増加し,増加窒素含有量の増加ととおに増加した。さらに,Fourier変換赤外分光の結果から,光誘起変形が,窒素と鎖結合に関係した停止構造としての三重結合の形成を通して起こることが分かった。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *炭素化合物 ,  *窒化物 ,  *膜 ,  *光照射 ,  *変形 ,  *ドーピング ,  ケイ素 ,  超薄膜 ,  *曲げ ,  曲率 ,  濃度依存性 ,  三重結合 ,  *窒化炭素 ,  *非晶質膜 ,  *可視光照射 ,  *窒素ドーピング
準シソーラス用語： シリコン

分類 (3件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  弾性力学一般  (HC02010M) ,  光化学一般  (CB08010U)

引用文献 (30件)：

• H. Sj?str?m, S. Stafstr?m, M. Boman, and J. E. Sundgren, Phys. Rev. Lett. 75, 1336 (1995).
• K. Kato, N. Umehara, and K. Adachi, Wear 254, 1062 (2003).
• F. Z. Cui, X. L. Qing, D. J. Li, and J. Zhao, Surf. Coatings Technol. 200, 1009 (2005).
• N. Tamura, M. Aono, T. Harata, H. Kishimura, N. Kitazawa, and Y. Watanabe, Jpn. J. Appl. Phys. 53, 02BC03 (2014).
• M. Aono, Y. Naruse, S. Nitta, and T. Katsuno, Diamond Relat. Mater. 10, 1147 (2001).

タイトルに関連する用語 (5件)： 非晶質 ,  窒化 ,  炭素膜 ,  光誘起 ,  窒素