文献
J-GLOBAL ID:201702283495922597   整理番号:17A1943475

一軸歪シリコンナノスケールNMOSFETのチャネル電流へのガンマ線の影響

Effects of gamma-ray radiation on channel current of the uniaxial strained Si nano-scale NMOSFET
著者 (4件):
資料名:
巻: 14  号: 19  ページ: 20170866(J-STAGE)  発行年: 2017年 
JST資料番号: U0039A  ISSN: 1349-2543  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
一軸歪シリコンナノメータNMOSFETのチャネル電流の解析モデルが,総線量照射による劣化を考慮して開発されている。このモデルに基づいて,Matlabによる数値シミュレーションを実行し,チャネル電流に対する総線量の影響をシミュレーションした。さらに,モデルの妥当性を評価するために,シミュレーション結果と実験データを比較して良好な一致を確認した。このように,提案モデルは一軸歪シリコンナノメータNMOSFETの照射信頼性に関する研究の参考となるものであった。(翻訳著者抄録)
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

著者キーワード (4件):
分類 (3件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
トランジスタ  ,  計算機シミュレーション  ,  半導体の放射線による構造と物性の変化 
引用文献 (10件):

前のページに戻る