水素ガス製造方法及び水素ガス製造装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：天野一規 , 藤本勝誠 , 池田義典 , 小川博生 , 石田耕治 , 各務幸樹 , 藤中賢一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-116680
公開番号（公開出願番号）：特開2017-218363
出願日： 2016年06月10日
公開日（公表日）： 2017年12月14日
要約：

【課題】水素ガス精製の停止及び再開を繰り返す際に、水素ガスの回収率低下を抑制すると共に立ち上げ時間を短縮できる水素ガス製造方法及び水素ガス製造装置を提供することを目的とする。【解決手段】本発明の水素ガス製造方法は、水素ガス及び水素以外の不純物ガスを含む水素リッチガスから吸着塔による精製で高純度水素ガスを製造する水素ガス製造方法であって、水素リッチガスの精製を停止してから再開するまでに、上記吸着塔内から排出される残留ガスを含む排出ガスを残留ガス用吸着塔により精製する工程を備えることを特徴とする。触媒存在下の加熱により有機ハイドライドの脱水素反応を行う工程をさらに備え、上記水素リッチガスが上記脱水素反応工程で排出されるガスであるとよい。また、本発明の水素ガス製造装置は、水素リッチガスの精製停止後の吸着塔内から排出される残留ガスを含む排出ガスを精製する残留ガス用吸着塔を備えることを特徴とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

水素ガス及び水素以外の不純物ガスを含む水素リッチガスから吸着塔による精製で高純度水素ガスを製造する水素ガス製造方法であって、上記水素リッチガスの精製を停止してから再開するまでに、上記吸着塔内から排出される残留ガスを含む排出ガスを残留ガス用吸着塔により精製する工程を備えることを特徴とする水素ガス製造方法。

IPC (10件)：

C01B 3/56 , C01B 3/26 , B01D 53/04 , B01J 20/08 , B01J 20/10 , B01J 20/18 , B01J 20/34 , B01J 20/20 , B01J 20/22 , C01B 3/58

FI (12件)：

C01B3/56 Z , C01B3/26 , B01D53/04 220 , B01D53/04 , B01J20/08 A , B01J20/10 A , B01J20/18 B , B01J20/34 D , B01J20/34 H , B01J20/20 B , B01J20/22 A , C01B3/58

Fターム (31件)：

4D012BA01 , 4D012BA02 , 4D012BA03 , 4D012CA07 , 4D012CB11 , 4D012CB16 , 4D012CD04 , 4D012CD07 , 4D012CG01 , 4D012CH02 , 4D012CK03 , 4G066AA05B , 4G066AA20B , 4G066AA22B , 4G066AA61B , 4G066AB23B , 4G066BA22 , 4G066CA51 , 4G066DA04 , 4G066GA14 , 4G066GA16 , 4G140DA03 , 4G140DB05 , 4G140FA02 , 4G140FA06 , 4G140FC02 , 4G140FD01 , 4G140FD02 , 4G140FD06 , 4G140FD07 , 4G140FE01

引用特許：

審査官引用 (5件)

水素ガス製造方法及び水素ガス製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2015-207483 出願人：株式会社神戸製鋼所
特開昭59-098716
水素供給システム
公報種別：公開公報出願番号：特願2012-221379 出願人：JX日鉱日石エネルギー株式会社, 株式会社日立製作所

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