合成ダイヤモンド材料を製造するマイクロ波プラズマ反応器

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：西島孝喜 , 弟子丸健 , 田中伸一郎 , 松下満 , 倉澤伊知郎 , 渡邊誠
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-573532
公開番号（公開出願番号）：特表2017-521556
出願日： 2015年06月10日
公開日（公表日）： 2017年08月03日
要約：

化学気相成長により合成ダイヤモンド材料を製造するマイクロ波プラズマ反応器であって、マイクロ波プラズマ反応器は、一次マイクロ波共振モード周波数fを有する一次マイクロ波共振モードを支える空胴共振器を構成するプラズマチャンバと、プラズマチャンバに結合されていて、全マイクロ波電力Pτを有するマイクロ波を発生させてかかるマイクロ波をプラズマチャンバ中に送り込む複数のマイクロ波源と、プロセスガスをプラズマチャンバ中に送り込んだりプロセスガスをプラズマチャンバから除去したりするガス流システムと、プラズマチャンバ内に設けられると共に使用中に合成ダイヤモンド材料を析出させるべき基板を支持する支持面を備えた基板ホルダとを有し、複数のマイクロ波源は、全マイクロ波電力Pτのうちの少なくとも30%を一次マイクロ波共振モード周波数fでプラズマチャンバ中に結合するよう構成され、複数のマイクロ波源のうちの少なくとも幾つかは、ソリッドステートマイクロ波源であることを特徴とするマイクロ波プラズマ反応器。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

化学気相成長により合成ダイヤモンド材料を製造するマイクロ波プラズマ反応器であって、前記マイクロ波プラズマ反応器は、一次マイクロ波共振モード周波数fを有する一次マイクロ波共振モードを支える空胴共振器を構成するプラズマチャンバと、前記プラズマチャンバに結合されていて、全マイクロ波電力PTを有するマイクロ波を発生させて該マイクロ波を前記プラズマチャンバ中に送り込む複数のマイクロ波源と、プロセスガスを前記プラズマチャンバ中に送り込んだり前記プロセスガスを前記プラズマチャンバから除去したりするガス流システムと、前記プラズマチャンバ内に設けられると共に使用中に前記合成ダイヤモンド材料を析出させるべき基板を支持する支持面を備えた基板ホルダとを有し、前記複数のマイクロ波源は、前記全マイクロ波電力PTのうちの少なくとも30%を前記一次マイクロ波共振モード周波数fで前記プラズマチャンバ中に結合するよう構成され、前記複数のマイクロ波源のうちの少なくとも幾つかは、ソリッドステートマイクロ波源である、マイクロ波プラズマ反応器。

IPC (4件)：

C23C 16/27 , C23C 16/511 , H01L 21/306 , H05H 1/46

FI (4件)：

C23C16/27 , C23C16/511 , H01L21/302 101D , H05H1/46 B

Fターム (35件)：

2G084AA05 , 2G084BB02 , 2G084BB05 , 2G084BB12 , 2G084BB13 , 2G084BB14 , 2G084BB28 , 2G084BB37 , 2G084CC03 , 2G084CC04 , 2G084CC06 , 2G084CC08 , 2G084CC14 , 2G084CC33 , 2G084DD04 , 2G084DD12 , 2G084DD25 , 2G084DD35 , 2G084DD62 , 2G084DD66 , 2G084EE09 , 2G084FF04 , 2G084FF40 , 4K030AA09 , 4K030BA27 , 4K030BB02 , 4K030BB03 , 4K030CA02 , 4K030CA11 , 4K030FA01 , 4K030JA16 , 4K030JA18 , 5F004AA01 , 5F004BB14 , 5F004BD04

引用特許：

審査官引用 (10件)

特開平3-111577
特開平4-144992
合成ダイヤモンド材料を製造するためのマイクロ波プラズマ反応器
公報種別：公表公報出願番号：特願2013-545202 出願人：エレメントシックスリミテッド

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