特許
J-GLOBAL ID:201703002275891755
ウェハ状物品の表面を処理するための装置
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
特許業務法人明成国際特許事務所
, 堀 研一
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-513285
特許番号:特許第6067002号
出願日: 2012年05月24日
請求項(抜粋):
【請求項1】 ウェハ状物品の液体処理のための装置であって、
密閉処理室と、
前記密閉処理室内に配置されたリングチャックであって、磁気ベアリングにより物理的接触なく駆動されるように構成された前記リングチャックと、
前記密閉処理室を取り囲む磁気ステータと、を備え、
前記密閉処理室は、ウェハ状物品の液体処理の際に前記リングチャックと前記磁気ステータとの間に位置する円筒壁を有し、また、
前記リングチャックは、該リングチャックと前記円筒壁との間に画成される隙間に処理液が上向きに浸入することを防ぐための構造として、
前記リングチャックの回転軸から径方向外側に向かう下向きかつ内向きの角度に配されたトレーリング面と、
前記トレーリング面から下方に垂下する円筒状バッフルの形態を有するスポイラと、
を有する、装置。
IPC (2件):
H01L 21/683 ( 200 6.01)
, H01L 21/02 ( 200 6.01)
FI (2件):
H01L 21/68 N
, H01L 21/02 Z
引用特許:
出願人引用 (2件)
-
ウエハ状製品、特にシリコンウエハの処理装置
公報種別:公表公報
出願番号:特願平8-532845
出願人:エスイーゼット・セミコンダクター-イクイプメント・ツベヘーア・フュア・ジ・ハルブライターフェルティグング・ゲゼルシャフト・エムベーハー
-
液処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2007-107726
出願人:東京エレクトロン株式会社
審査官引用 (4件)
-
ウエハ状製品、特にシリコンウエハの処理装置
公報種別:公表公報
出願番号:特願平8-532845
出願人:エスイーゼット・セミコンダクター-イクイプメント・ツベヘーア・フュア・ジ・ハルブライターフェルティグング・ゲゼルシャフト・エムベーハー
-
液処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2007-107726
出願人:東京エレクトロン株式会社
-
円盤状の物品を処理するための装置
公報種別:公表公報
出願番号:特願2012-502851
出願人:ラム・リサーチ・アーゲー
-
板状物品の流体処理用装置
公報種別:公表公報
出願番号:特願2008-557705
出願人:エスイーゼツト・アクチエンゲゼルシヤフト
全件表示
前のページに戻る