特許
J-GLOBAL ID：201703002486060353

基板処理方法および基板処理装置

発明者：
橋本 光治

橋本 光治 について


出願人/特許権者：
株式会社SCREENホールディングス

株式会社SCREENホールディングス について


代理人 (1件)： 特許業務法人あい特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-044554
公開番号（公開出願番号）：特開2017-162916
出願日： 2016年03月08日
公開日（公表日）： 2017年09月14日
要約：
【課題】低表面張力液体を基板の上面から良好に排除することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。【解決手段】基板Wの上面に有機溶剤ノズル13から有機溶剤(低表面張力液体)が供給されて基板Wに有機溶剤の液膜が形成される。有機溶剤の液膜Mの中央領域に開口Hが形成され、開口Hが広げられことによって、基板Wの上面から液膜Mが排除される。有機溶剤ノズル13から開口Hの外側に設定した着液点Pに向けて有機溶剤を液膜Mに供給しながら、開口Hの広がりに追従するように着液点Pを移動させる。開口Hの内側に設定された乾燥領域Rに乾燥ヘッド14の対向面50を対向させて対向面50と乾燥領域Rとの間の空間にその空間外よりも低湿度の低湿度空間Bを形成しながら、乾燥領域Rおよび対向面50を開口Hの広がりに追従するように移動させる。【選択図】図3A
請求項（抜粋）：
基板を水平に保持する基板保持工程と、 前記水平に保持された基板の上面に、水よりも表面張力の低い低表面張力液体の液膜を形成する液膜形成工程と、 前記低表面張力液体の液膜の中央領域に開口を形成する開口形成工程と、 前記開口を広げることによって、前記基板の上面から前記液膜を排除する液膜排除工程と、 低表面張力液体を供給する低表面張力液体ノズルから前記開口の外側に設定した着液点に向けて低表面張力液体を前記液膜に供給しながら、前記開口の広がりに追従するように前記着液点を移動させる着液点移動工程と、 前記開口の内側に設定された乾燥領域に、前記基板よりも平面視サイズの小さな対向面を有する乾燥ヘッドの前記対向面を対向させて前記対向面と前記乾燥領域との間の空間にその空間外よりも低湿度の低湿度空間を形成しながら、前記乾燥領域および前記対向面を前記開口の広がりに追従するように移動させる乾燥領域移動工程とを含む、基板処理方法。
IPC (1件)：
H01L 21/304
FI (3件)：
H01L21/304 651B ,  H01L21/304 651L ,  H01L21/304 648G
Fターム (36件)：
5F157AA09 ,  5F157AA71 ,  5F157AB02 ,  5F157AB14 ,  5F157AB33 ,  5F157AB49 ,  5F157AB90 ,  5F157AC03 ,  5F157AC04 ,  5F157AC26 ,  5F157BB23 ,  5F157BB32 ,  5F157BB37 ,  5F157BB44 ,  5F157BC17 ,  5F157BC53 ,  5F157BH18 ,  5F157CB03 ,  5F157CB13 ,  5F157CB14 ,  5F157CB15 ,  5F157CB22 ,  5F157CE07 ,  5F157CE08 ,  5F157CE10 ,  5F157CE23 ,  5F157CE25 ,  5F157CE53 ,  5F157CE54 ,  5F157CE59 ,  5F157CF16 ,  5F157CF34 ,  5F157CF92 ,  5F157DA21 ,  5F157DB31 ,  5F157DB37
引用特許：
審査官引用 (4件)
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