特許
J-GLOBAL ID：201703003079765934
偏光解消素子
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
野口 大輔
, 野口 繁雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-052894
公開番号（公開出願番号）：特開2017-167363
出願日： 2016年03月16日
公開日（公表日）： 2017年09月21日
要約：
【課題】光に実質的に1/2波長分の位相差を生じさせて光の光学軸方向を時分割で変更する偏光解消素子の製造を容易にする。【解決手段】偏光解消素子は、一方側の面が光を入射させる光入射面となっており、前記光入射面が同一平面内で回転するように回転駆動される。該偏光解消素子は、前記光入射面に平行な層であって、前記光入射面から入射した光に略1/4波長分の位相差を生じさせる微細構造(サブ波長構造)が単一の光学軸方向をもって前記光入射面の回転中心を中心とする円周上に連続して設けられている微細構造領域を有する位相差発生層と、前記光入射面からみて前記位相差発生層の直下に設けられ、前記位相差発生層を通過した光を前記光入射面側へ反射させる反射層と、を備えている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
一方側の面が光を入射させる光入射面となっており、前記光入射面が同一平面内で回転するように回転駆動される偏光解消素子であって、
前記光入射面に平行な層であって、前記光入射面から入射した光に略1/4波長分の位相差を生じさせる微細構造が単一の光学軸方向をもって前記光入射面の回転中心を中心とする円周上に連続して設けられている微細構造領域を有する位相差発生層と、
前記光入射面からみて前記位相差発生層の直下に設けられ、前記位相差発生層を通過した光を前記光入射面側へ反射させる反射層と、を備えた偏光解消素子。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (7件)：
2H149AA21
, 2H149AA22
, 2H149AB26
, 2H149BA06
, 2H149DA04
, 2H149DA13
, 2H149FC07
