特許
J-GLOBAL ID:201703003570592944
磁気抵抗センサ製造
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人深見特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-075042
公開番号(公開出願番号):特開2017-004586
出願日: 2016年04月04日
公開日(公表日): 2017年01月05日
要約:
【課題】リーダ形成中で高温アニール処理後に反強磁性結合特性の劣化が少ないリーダ磁気構造を可能にする。【解決手段】リーダ構造は第1のリーダを含み、第1のリーダはセンサスタック130と頂部シールド構造122とを含み、頂部シールド構造は合成反強磁性シールド(SAF)構造126を含み、合成反強磁性シールド(SAF)構造は、少なくともNiFeの層と不純物添加物とを含む基準層(RL)と、RKKY結合層(たとえばRu層)と、固定層(PL)とを含む。他の実現例では、第1のリーダのSAFシールド構造のRLは、少なくとも非晶質の磁性材料の層を含む。しかし、他の実現例では、SAFシールド構造は、非晶質の磁性材料の挿入層を、SAFシールドRL下、SAFシールドRL内、またはSAFシールドRLとSAFシールドRuとの間に含む。【選択図】図1
請求項(抜粋):
リーダ構造であって、
第1のリーダを含み、前記第1のリーダは、
センサスタックと、
頂部シールド構造とを含み、前記頂部シールド構造は、合成反強磁性シールド構造を含み、前記合成反強磁性シールド構造は、
少なくともNiFeの層と不純物添加物とを含む基準層と、
RKKY結合層と、
固定層とを含む、リーダ構造。
IPC (5件):
G11B 5/39
, H01L 43/08
, H01L 43/10
, H01F 10/14
, H01F 10/32
FI (5件):
G11B5/39
, H01L43/08 Z
, H01L43/10
, H01F10/14
, H01F10/32
Fターム (25件):
5D034BA03
, 5D034BA04
, 5D034BA12
, 5D034BB02
, 5D034BB08
, 5D034BB12
, 5D034BB20
, 5D034CA00
, 5D034DA07
, 5E049AA01
, 5E049AA07
, 5E049AC05
, 5E049BA16
, 5F092AB03
, 5F092AC08
, 5F092AC12
, 5F092AD03
, 5F092BB31
, 5F092BC04
, 5F092BC07
, 5F092BE06
, 5F092BE24
, 5F092BE25
, 5F092BE27
, 5F092CA25
引用特許:
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