特許
J-GLOBAL ID:200903071515365419
磁気抵抗効果素子,および磁気抵抗効果素子の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
堀口 浩
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-173741
公開番号(公開出願番号):特開2009-290225
出願日: 2009年07月24日
公開日(公表日): 2009年12月10日
要約:
【課題】ピン層,スペーサ層,フリー層の積層構造を用いない磁気抵抗効果素子を提供する。【解決手段】磁気抵抗効果素子が,磁化方向が実質的に固着された第1の磁性層と,前記第1の磁性層上に配置され,かつ酸化物,窒化物,酸窒化物,金属のいずれか1つからなる薄膜層と,前記薄膜層上に配置され,かつ磁化方向が実質的に固着された第2の磁性層と,を具備する。薄膜層が外部磁場を検知することで,磁気抵抗効果素子の磁気抵抗が変化する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
磁化方向が実質的に固着された第1の磁性層と,
前記第1の磁性層下に配置され,この第1の磁性層の磁化方向を固着する第1のピニング層と,
前記第1の磁性層上に配置され,かつ酸化物,窒化物,酸窒化物,金属のいずれか1つからなり、膜厚が0.5nm以上3nm以下である薄膜層と,
前記薄膜層上に配置され,かつ磁化方向が実質的に固着された第2の磁性層と,
前記第2の磁性層上に配置され,この第2の磁性層の磁化方向を固着する第2のピニング層と,
を具備することを特徴とする磁気抵抗効果素子。
IPC (6件):
H01L 43/08
, H01L 43/12
, H01L 21/824
, H01L 27/105
, H01L 43/10
, G11B 5/39
FI (5件):
H01L43/08 Z
, H01L43/12
, H01L27/10 447
, H01L43/10
, G11B5/39
Fターム (49件):
4M119BB01
, 4M119CC02
, 4M119DD02
, 4M119DD06
, 4M119DD07
, 4M119DD08
, 4M119DD09
, 4M119DD33
, 4M119DD37
, 4M119DD42
, 4M119DD45
, 4M119EE03
, 4M119EE22
, 4M119EE29
, 4M119FF05
, 4M119FF06
, 4M119FF15
, 4M119FF17
, 4M119JJ09
, 5D034BA04
, 5D034BA16
, 5D034DA07
, 5F092AB02
, 5F092AB07
, 5F092AB08
, 5F092AC11
, 5F092AD03
, 5F092BB09
, 5F092BB10
, 5F092BB15
, 5F092BB17
, 5F092BB22
, 5F092BB23
, 5F092BB33
, 5F092BB34
, 5F092BB41
, 5F092BB45
, 5F092BB53
, 5F092BC01
, 5F092BC07
, 5F092BC18
, 5F092BC22
, 5F092BC46
, 5F092BE06
, 5F092BE13
, 5F092BE27
, 5F092CA14
, 5F092CA15
, 5F092GA05
引用特許:
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