特許
J-GLOBAL ID:200903071515365419

磁気抵抗効果素子,および磁気抵抗効果素子の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 堀口 浩
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-173741
公開番号(公開出願番号):特開2009-290225
出願日: 2009年07月24日
公開日(公表日): 2009年12月10日
要約:
【課題】ピン層,スペーサ層,フリー層の積層構造を用いない磁気抵抗効果素子を提供する。【解決手段】磁気抵抗効果素子が,磁化方向が実質的に固着された第1の磁性層と,前記第1の磁性層上に配置され,かつ酸化物,窒化物,酸窒化物,金属のいずれか1つからなる薄膜層と,前記薄膜層上に配置され,かつ磁化方向が実質的に固着された第2の磁性層と,を具備する。薄膜層が外部磁場を検知することで,磁気抵抗効果素子の磁気抵抗が変化する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
磁化方向が実質的に固着された第1の磁性層と, 前記第1の磁性層下に配置され,この第1の磁性層の磁化方向を固着する第1のピニング層と, 前記第1の磁性層上に配置され,かつ酸化物,窒化物,酸窒化物,金属のいずれか1つからなり、膜厚が0.5nm以上3nm以下である薄膜層と, 前記薄膜層上に配置され,かつ磁化方向が実質的に固着された第2の磁性層と, 前記第2の磁性層上に配置され,この第2の磁性層の磁化方向を固着する第2のピニング層と, を具備することを特徴とする磁気抵抗効果素子。
IPC (6件):
H01L 43/08 ,  H01L 43/12 ,  H01L 21/824 ,  H01L 27/105 ,  H01L 43/10 ,  G11B 5/39
FI (5件):
H01L43/08 Z ,  H01L43/12 ,  H01L27/10 447 ,  H01L43/10 ,  G11B5/39
Fターム (49件):
4M119BB01 ,  4M119CC02 ,  4M119DD02 ,  4M119DD06 ,  4M119DD07 ,  4M119DD08 ,  4M119DD09 ,  4M119DD33 ,  4M119DD37 ,  4M119DD42 ,  4M119DD45 ,  4M119EE03 ,  4M119EE22 ,  4M119EE29 ,  4M119FF05 ,  4M119FF06 ,  4M119FF15 ,  4M119FF17 ,  4M119JJ09 ,  5D034BA04 ,  5D034BA16 ,  5D034DA07 ,  5F092AB02 ,  5F092AB07 ,  5F092AB08 ,  5F092AC11 ,  5F092AD03 ,  5F092BB09 ,  5F092BB10 ,  5F092BB15 ,  5F092BB17 ,  5F092BB22 ,  5F092BB23 ,  5F092BB33 ,  5F092BB34 ,  5F092BB41 ,  5F092BB45 ,  5F092BB53 ,  5F092BC01 ,  5F092BC07 ,  5F092BC18 ,  5F092BC22 ,  5F092BC46 ,  5F092BE06 ,  5F092BE13 ,  5F092BE27 ,  5F092CA14 ,  5F092CA15 ,  5F092GA05
引用特許:
審査官引用 (6件)
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