特許
J-GLOBAL ID:201703004256309207

光センサ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 畠山 文夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-219538
公開番号(公開出願番号):特開2017-092210
出願日: 2015年11月09日
公開日(公表日): 2017年05月25日
要約:
【課題】フォトコンダクティブゲインが大きく、有害元素を含まず、かつ、紫外光から近赤外光領域で応答する光センサを提供すること。【解決手段】光センサ10は、チャネル26がグラフェンからなる電界効果トランジスタ20と、チャネル26の表面に形成された光吸収層40とを備えている。グラフェンは、半金属(バンドギャップ(Eg)≒0eV)からなる。光吸収層40は、窒素官能基化ナノグラフェンを含む。また、窒素官能基化ナノグラフェンは、ナノグラフェンと、ナノグラフェンに導入されたπ共役性窒素官能基とを備えている。窒素官能基化ナノグラフェンは、半導体(Eg>0eV)からなり、かつ、グラフェンとのLUMO準位差又はHOMO準位差が2eV以下である。【選択図】図1
請求項(抜粋):
以下の構成を備えた光センサ。 (1)前記光センサは、 チャネルがグラフェンからなる電界効果トランジスタと、 前記チャネルの表面に形成された光吸収層と を備えている。 (2)前記グラフェンは、半金属(バンドギャップ(Eg)≒0eV)からなる。 (3)前記光吸収層は、窒素官能基化ナノグラフェンを含み、 前記窒素官能基化ナノグラフェンは、 ナノグラフェンと、 前記ナノグラフェンに導入されたπ共役性窒素官能基と を備えている。 (4)前記窒素官能基化ナノグラフェンは、半導体(Eg>0eV)からなり、かつ、前記グラフェンとのLUMO準位差又はHOMO準位差が2eV以下である。
IPC (4件):
H01L 31/10 ,  C01B 32/15 ,  C01B 32/18 ,  C01B 32/182
FI (2件):
H01L31/10 E ,  C01B31/02 101Z
Fターム (22件):
4G146AA01 ,  4G146AB07 ,  4G146AC19A ,  4G146AC19B ,  4G146AC30A ,  4G146AC30B ,  4G146AD28 ,  4G146AD30 ,  4G146CA06 ,  4G146CA11 ,  4G146CA16 ,  4G146CB10 ,  4G146CB12 ,  4G146CB17 ,  4G146CB22 ,  4G146CB35 ,  5F849AA14 ,  5F849AB11 ,  5F849BA09 ,  5F849XA02 ,  5F849XA46 ,  5F849XA47
引用特許:
審査官引用 (4件)
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引用文献:
審査官引用 (2件)

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