特許
J-GLOBAL ID:201703004256309207
光センサ
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
畠山 文夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-219538
公開番号(公開出願番号):特開2017-092210
出願日: 2015年11月09日
公開日(公表日): 2017年05月25日
要約:
【課題】フォトコンダクティブゲインが大きく、有害元素を含まず、かつ、紫外光から近赤外光領域で応答する光センサを提供すること。【解決手段】光センサ10は、チャネル26がグラフェンからなる電界効果トランジスタ20と、チャネル26の表面に形成された光吸収層40とを備えている。グラフェンは、半金属(バンドギャップ(Eg)≒0eV)からなる。光吸収層40は、窒素官能基化ナノグラフェンを含む。また、窒素官能基化ナノグラフェンは、ナノグラフェンと、ナノグラフェンに導入されたπ共役性窒素官能基とを備えている。窒素官能基化ナノグラフェンは、半導体(Eg>0eV)からなり、かつ、グラフェンとのLUMO準位差又はHOMO準位差が2eV以下である。【選択図】図1
請求項(抜粋):
以下の構成を備えた光センサ。
(1)前記光センサは、
チャネルがグラフェンからなる電界効果トランジスタと、
前記チャネルの表面に形成された光吸収層と
を備えている。
(2)前記グラフェンは、半金属(バンドギャップ(Eg)≒0eV)からなる。
(3)前記光吸収層は、窒素官能基化ナノグラフェンを含み、
前記窒素官能基化ナノグラフェンは、
ナノグラフェンと、
前記ナノグラフェンに導入されたπ共役性窒素官能基と
を備えている。
(4)前記窒素官能基化ナノグラフェンは、半導体(Eg>0eV)からなり、かつ、前記グラフェンとのLUMO準位差又はHOMO準位差が2eV以下である。
IPC (4件):
H01L 31/10
, C01B 32/15
, C01B 32/18
, C01B 32/182
FI (2件):
H01L31/10 E
, C01B31/02 101Z
Fターム (22件):
4G146AA01
, 4G146AB07
, 4G146AC19A
, 4G146AC19B
, 4G146AC30A
, 4G146AC30B
, 4G146AD28
, 4G146AD30
, 4G146CA06
, 4G146CA11
, 4G146CA16
, 4G146CB10
, 4G146CB12
, 4G146CB17
, 4G146CB22
, 4G146CB35
, 5F849AA14
, 5F849AB11
, 5F849BA09
, 5F849XA02
, 5F849XA46
, 5F849XA47
引用特許: