特許
J-GLOBAL ID:201703005161686581

プラズマ処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人深見特許事務所
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-219490
公開番号(公開出願番号):特開2014-072137
特許番号:特許第6076667号
出願日: 2012年10月01日
公開日(公表日): 2014年04月21日
請求項(抜粋):
【請求項1】 大気圧近傍の圧力下で被処理物を放電処理するプラズマ処理装置であって、 放電室と、 前記放電室にガスを導入するためのガス導入口と、 前記放電室に導入されたガスを排出するためのガス排出口と、 前記放電室の一端に設けられた被処理物導入口と、 前記放電室の他端に設けれらた被処理物導出口と、 前記放電室内に設けられた少なくとも一つの電極対と、 前記被処理物導入口から前記放電室内に前記被処理物を導入し、前記電極対の電極間を通過させた後に、前記被処理物導出口から前記放電室の下流方向に前記被処理物を搬送する、搬送手段と、 前記放電室の下流の前記被処理物の搬送路上に、前記被処理物の表面に、前記被処理物の表面から前記放電室の前記被処理物導出口に向かうようにエアーを吹き付けるエアー吹き付け手段と、 前記ガス排出口から排出されるガスに含まれる有害成分を除去した後に外部へ排出する有害成分除去手段と、を備え、 前記被処理物導出口は前記被処理物導入口より大きい開口部で構成され、 前記放電室内において、前記被処理物の搬送方向に順に、全ての前記電極対、前記ガス排出口、前記被処理物導出口が設けられ、 前記被処理物導入口の上流方向に1000mm離れた位置P11と、前記被処理物導出口から1000mm離れた位置P12と、前記ガス排出口付近の位置P2と、前記有害成分除去手段の外部の位置P3との圧力とが、 位置P11の圧力≒位置P12の圧力>位置P2の圧力>位置P3の圧力 の関係を満たすように用いられる、プラズマ処理装置。
IPC (1件):
H05H 1/24 ( 200 6.01)
FI (1件):
H05H 1/24
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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