特許
J-GLOBAL ID:201003065018290937
表面処理装置
発明者:
,
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
渡辺 昇
, 原田 三十義
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-252332
公開番号(公開出願番号):特開2010-087077
出願日: 2008年09月30日
公開日(公表日): 2010年04月15日
要約:
【課題】被処理物を表面処理する処理槽から処理ガスが漏れるのを防止し、かつ処理空間での処理ガスの流れを安定化する。【解決手段】被処理物9を搬送手段20によって搬入開口13から処理槽10の内部に搬入し、処理空間19に配置する。供給系30から処理ガスを処理空間19に供給し、被処理物9を表面処理する。その後、被処理物9を搬出開口14から搬出する。排気系40で処理槽10の内部からガスを排出する。このガス排出によって外部のガスが開口13,14を通して処理槽10の内部に流入する。この流入ガスの平均流速が、0.1m/sec以上、かつ流入ガスが処理空間19に達する大きさ未満になるよう設定する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
被処理物の表面に処理ガスを接触させ、前記表面を処理する装置において、
搬入開口及び搬出開口を有し、かつ内部に前記表面処理を行なう処理空間が前記搬入開口及び搬出開口から離れて設けられた処理槽と、
被処理物を前記搬入開口から前記処理槽の内部に搬入し前記処理空間に配置した後、前記搬出開口から搬出する搬送手段と、
前記処理空間に処理ガスを供給する供給系と、
前記処理槽の内部からガスを排出する排気系と、
を備え、前記排気系のガス排出によって前記処理槽の外部のガスが前記開口を通して前記処理槽の内部に流入し、しかも前記流入の平均流速が、0.1m/sec以上かつ前記流入ガスが前記処理空間に達する大きさ未満になるよう設定されていることを特徴とする表面処理装置。
IPC (5件):
H01L 21/306
, H01L 21/31
, H01L 21/304
, B08B 1/02
, B08B 5/00
FI (7件):
H01L21/302 101E
, H01L21/302 104C
, H01L21/31 C
, H01L21/304 645B
, H01L21/304 648A
, B08B1/02
, B08B5/00 A
Fターム (71件):
3B116AA02
, 3B116AA03
, 3B116AB14
, 3B116BB22
, 3B116BB32
, 3B116BB72
, 3B116CD11
, 3B116CD22
, 3B116CD43
, 5F004AA01
, 5F004BA02
, 5F004BA03
, 5F004BA11
, 5F004BC03
, 5F004BC04
, 5F004BC06
, 5F004BD04
, 5F004CA02
, 5F004DA01
, 5F004DA02
, 5F004DA03
, 5F004DA15
, 5F004DA16
, 5F004DA17
, 5F004DA18
, 5F004DA19
, 5F004DA20
, 5F004DA22
, 5F004DA23
, 5F004DA26
, 5F004DA27
, 5F004DB01
, 5F004FA08
, 5F045AA08
, 5F045BB02
, 5F045BB20
, 5F045DP23
, 5F045DQ10
, 5F045EC02
, 5F045EG06
, 5F045EG09
, 5F045EH18
, 5F157AB42
, 5F157AB48
, 5F157AB51
, 5F157AB52
, 5F157AB82
, 5F157AB94
, 5F157AC01
, 5F157AC13
, 5F157BG03
, 5F157BG32
, 5F157BG36
, 5F157BG37
, 5F157BG39
, 5F157BG85
, 5F157BG86
, 5F157BG96
, 5F157CE10
, 5F157CE11
, 5F157CE77
, 5F157CF20
, 5F157CF22
, 5F157CF66
, 5F157CF72
, 5F157DA11
, 5F157DA41
, 5F157DB37
, 5F157DB57
, 5F157DC83
, 5F157DC84
引用特許:
出願人引用 (13件)
-
特許第4058857号公報(図9)
-
特許第3994596号公報(図7)
-
グロー放電プラズマ処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-342070
出願人:積水化学工業株式会社
-
特許第4058857号
-
特許第3994596号
-
光電変換素子の連続製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-333757
出願人:キヤノン株式会社
-
特開昭63-020470
-
ガス処理装置のクリーニング方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-012257
出願人:株式会社東芝
-
成膜装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-193060
出願人:三菱重工業株式会社
-
成膜装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2006-343223
出願人:株式会社アルバック
-
異なるガス圧の領域を隔離するためのガス出入口
公報種別:公表公報
出願番号:特願2006-503330
出願人:エナージーコンバーションデバイセスインコーポレイテッド
-
高圧ガスアニーリング装置及び方法
公報種別:公表公報
出願番号:特願2008-554126
出願人:プンサンマイクロテックカンパニーリミティッド
-
大気圧プラズマ処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-329147
出願人:シャープ株式会社
全件表示
審査官引用 (14件)
-
特許第4058857号
-
特許第4058857号
-
特許第3994596号
-
特許第3994596号
-
光電変換素子の連続製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-333757
出願人:キヤノン株式会社
-
特開昭63-020470
-
特開昭63-020470
-
ガス処理装置のクリーニング方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-012257
出願人:株式会社東芝
-
成膜装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-193060
出願人:三菱重工業株式会社
-
成膜装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2006-343223
出願人:株式会社アルバック
-
異なるガス圧の領域を隔離するためのガス出入口
公報種別:公表公報
出願番号:特願2006-503330
出願人:エナージーコンバーションデバイセスインコーポレイテッド
-
グロー放電プラズマ処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-342070
出願人:積水化学工業株式会社
-
高圧ガスアニーリング装置及び方法
公報種別:公表公報
出願番号:特願2008-554126
出願人:プンサンマイクロテックカンパニーリミティッド
-
大気圧プラズマ処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-329147
出願人:シャープ株式会社
全件表示
前のページに戻る