特許
J-GLOBAL ID:201703005489242311
半導体装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
田下 明人
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-152856
公開番号(公開出願番号):特開2015-023249
特許番号:特許第6098412号
出願日: 2013年07月23日
公開日(公表日): 2015年02月02日
請求項(抜粋):
【請求項1】 半導体基板(3)と、
前記半導体基板(3)の一方の主面側に形成された半導体素子(50)と、
前記半導体素子(50)の上方側に設けられ、前記半導体素子(50)と電気的に接続された電極パッド層(10)と、
前記半導体基板(3)の所定の上面部(3a)と前記電極パッド層(10)を覆う構成で配置されると共に、酸化シリコンを主体として構成される第1絶縁膜(20)と、
前記第1絶縁膜(20)を覆う構成で配置され、窒化シリコンを主体として構成される第2絶縁膜(30)と、
前記電極パッド層(10)の上方において、前記第1絶縁膜(20)及び前記第2絶縁膜(30)を開口して形成される第1開口部(40)と、
少なくとも一部が前記第1絶縁膜(20)及び前記第2絶縁膜(30)の上方に配置され、前記第1開口部(40)を介して前記電極パッド層(10)と電気的に接続されるバンプ(14)と、
前記第1開口部(40)の一部として又は前記第1開口部(40)とは別の開口部として形成され、前記第2絶縁膜(30)において該第2絶縁膜(30)の厚さ方向に貫通すると共に前記バンプ(14)の周囲を取り囲む構成で環状に設けられ外周縁部(42a)が前記バンプ(14)から離れた位置に配置される第2開口部(42、242、342)と、
を備え、
前記第2開口部(42、242、342)は、前記電極パッド層(10)の上方であって、該電極パッド層(10)と重なる領域に形成されていることを特徴とする半導体装置(1、101、201、301)。
IPC (4件):
H01L 21/60 ( 200 6.01)
, H01L 21/3205 ( 200 6.01)
, H01L 21/768 ( 200 6.01)
, H01L 23/522 ( 200 6.01)
FI (3件):
H01L 21/92 602 K
, H01L 21/92 602 E
, H01L 21/88 T
引用特許: