特許
J-GLOBAL ID：201703005909106796
半導体ストッカシステム及び半導体ストック方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
アインゼル・フェリックス=ラインハルト
, 久野 琢也
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-518030
特許番号：特許第6042427号
出願日： 2012年06月28日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 ワークピースのための汚染除去チャンバであって、
前記ワークピースは、前記汚染除去チャンバ内に配置され、製品を保管するための第1の容器を含み、該第1の容器は第2の容器内に保管されている、汚染除去チャンバにおいて、
前記汚染除去チャンバは、
前記ワークピースを支持する支持部と、
前記汚染除去チャンバに接続されている第1のポンピング機構と、
前記汚染除去チャンバに不活性ガスを供給するための第1のガス供給システムと、
前記ワークピースに接続されており、且つ、前記第1の容器と前記第2の容器との間の容積をポンピングするように構成されている、第2のポンピング機構と、
前記ワークピースに接続されており、且つ、前記第1の容器と前記第2の容器との間の容積に不活性ガスを供給するように構成されている、第2のガス供給システムと、
を含むことを特徴とする、汚染除去チャンバ。
IPC (4件)：
H01L 21/673 ( 200 6.01)
, H01L 21/02 ( 200 6.01)
, G03F 1/66 ( 201 2.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
H01L 21/68 T
, H01L 21/02 D
, G03F 1/66
, H01L 21/30 503 E
