特許
J-GLOBAL ID：201703008170769286

プラズマ照射処理装置、その評価装置及び評価方法、その制御装置及び制御方法、並びに、膜の製造方法

発明者：
池原 譲

池原 譲 について

, 
池原 早苗

池原 早苗 について

, 
宮本 健司

宮本 健司 について

, 
武井 光

武井 光 について


出願人/特許権者：
国立研究開発法人産業技術総合研究所

国立研究開発法人産業技術総合研究所 について

, 
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (3件)： 平木 祐輔 ,  渡辺 敏章 ,  広瀬 幹規
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-043933
公開番号（公開出願番号）：特開2017-158659
出願日： 2016年03月07日
公開日（公表日）： 2017年09月14日
要約：
【課題】プラズマと照射対象物への効果との関係を推定する。【解決手段】プラズマ照射処理装置は、プラズマを生成するプラズマ生成部と、前記プラズマを照射対象物に照射している間に前記照射対象物を介して流れる電流値を測定する測定部と、前記電流の電流値と前記プラズマの凝固能との相関関係を作成する評価部とを備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
プラズマを生成するプラズマ生成部と、 前記プラズマを照射対象物に照射している間に前記照射対象物を介して流れる電流値を測定する測定部と、 前記電流値と前記プラズマの凝固能との相関関係を作成する評価部と を備えるプラズマ照射処理装置。
IPC (2件)：
A61B 18/04 ,  H05H 1/26
FI (2件)：
A61B18/04 ,  H05H1/26
Fターム (17件)：
2G084AA24 ,  2G084BB11 ,  2G084BB21 ,  2G084BB24 ,  2G084CC21 ,  2G084CC34 ,  2G084GG02 ,  2G084GG07 ,  2G084HH05 ,  2G084HH11 ,  2G084HH21 ,  2G084HH22 ,  2G084HH43 ,  2G084HH44 ,  2G084HH47 ,  2G084HH54 ,  4C160KK70
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM