特許
J-GLOBAL ID:201703008878185985
基板洗浄装置及び基板処理装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (9件):
大野 聖二
, 小林 英了
, 大野 浩之
, 森田 耕司
, 津田 理
, 松野 知紘
, 酒谷 誠一
, 佃 誠玄
, 野本 裕史
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-069697
公開番号(公開出願番号):特開2017-183553
出願日: 2016年03月30日
公開日(公表日): 2017年10月05日
要約:
【課題】超音波振動が付与された洗浄液を供給して基板Wを洗浄する。 【解決手段】基板処理装置は、洗浄液に超音波振動を与える振動部20と、洗浄液を基板Wに供給する供給体30と、を有している。供給体30は、流入口33から流入した洗浄液を第一案内路31aを介して流出口34へと案内するとともに、流入口33及び流出口34とは異なる開口部35を有する第一案内部31と、第一案内路31aの少なくとも一部の周縁外方に第一案内部31を介して設けられたシール部45と、開口部35を覆うとともにシール部45と接触する閉鎖部40と、を有している。振動部20によって発生される超音波振動は、閉鎖部40又は第一案内部31を介して洗浄液に付与される。【選択図】 図3
請求項(抜粋):
洗浄液を供給する供給部と、
前記供給部から供給される洗浄液に超音波振動を与える振動部と、
前記供給部から供給された洗浄液を流出口から基板に供給する供給体と、を備え、
前記供給体は、前記供給部から供給された洗浄液が流入する流入口と、前記流入口から流入した洗浄液を第一案内路を介して前記流出口へと案内するとともに、前記流入口及び前記流出口とは異なる開口部を有する第一案内部と、前記第一案内路の少なくとも一部の周縁外方に前記第一案内部を介して設けられたシール部と、前記開口部を覆うとともに前記シール部と接触する閉鎖部と、を有し、
前記振動部によって発生される超音波振動は前記閉鎖部又は前記第一案内部を介して洗浄液に付与されることを特徴とする基板洗浄装置。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (7件):
5F157AB02
, 5F157AB33
, 5F157AB90
, 5F157AC01
, 5F157BB11
, 5F157BB73
, 5F157DC90
引用特許:
審査官引用 (6件)
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超音波洗浄装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-050520
出願人:芝浦メカトロニクス株式会社
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超音波処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-089201
出願人:芝浦メカトロニクス株式会社
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特開昭56-060677
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