特許
J-GLOBAL ID:201703010695889546
基板の裏面を洗浄する装置および方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
渡邉 勇
, 廣澤 哲也
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-028129
公開番号(公開出願番号):特開2017-147334
出願日: 2016年02月17日
公開日(公表日): 2017年08月24日
要約:
【課題】裏面から研磨屑などのパーティクルを高い除去率で除去することができる装置を提供する。【解決手段】基板Wの裏面を洗浄するための装置は、基板Wの裏面を上向きにした状態で、基板Wを保持しながら回転させる基板保持部105と、回転可能に構成されたスクラブ洗浄具108と、基板保持部105の上方に配置された二流体ノズル109と、基板保持部105、スクラブ洗浄具108、および二流体ノズル109が配置される洗浄室99を形成するハウジング100とを備える。【選択図】図10
請求項(抜粋):
基板の裏面を洗浄するための装置であって、
基板の裏面を上向きにした状態で、基板を保持しながら回転させる基板保持部と、
回転可能に構成されたスクラブ洗浄具と、
前記基板保持部の上方に配置された二流体ノズルと、
前記基板保持部、前記スクラブ洗浄具、および前記二流体ノズルが配置される洗浄室を形成するハウジングとを備えたことを特徴とする装置。
IPC (1件):
FI (3件):
H01L21/304 644C
, H01L21/304 643A
, H01L21/304 622Q
Fターム (33件):
5F057AA21
, 5F057BA11
, 5F057CA13
, 5F057CA25
, 5F057DA06
, 5F057DA11
, 5F057DA39
, 5F057EC30
, 5F057FA45
, 5F157AA16
, 5F157AA70
, 5F157AA73
, 5F157AA96
, 5F157AB02
, 5F157AB14
, 5F157AB33
, 5F157AB46
, 5F157AB48
, 5F157AB90
, 5F157AC26
, 5F157BA07
, 5F157BA13
, 5F157BA14
, 5F157BA31
, 5F157BB13
, 5F157BB37
, 5F157BB44
, 5F157BC01
, 5F157BC52
, 5F157CB03
, 5F157CB13
, 5F157DB18
, 5F157DB38
引用特許:
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