特許
J-GLOBAL ID：201703012867222460
終点検出方法、プログラム及び基板処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
別役 重尚
, 村松 聡
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-153475
公開番号（公開出願番号）：特開2014-017359
特許番号：特許第6084788号
出願日： 2012年07月09日
公開日（公表日）： 2014年01月30日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板の表面においてテクスチャー構造を形成する処理中に複数の波長を含む所定の波長域を有する照射光を前記基板の表面に照射する照射ステップと、
前記基板の表面からの反射光を受光する受光ステップと、
前記反射光に含まれる少なくとも1つの波長の光であるモニタ光の強度の時間変化をモニタするモニタステップと、
特異的に変化するモニタ光の強度の時間変化が、前記テクスチャー構造の形成の完了に対応する予め設定された所定の特異点へ到達したか否かを判定する判定ステップと、
前記モニタ光の強度の時間変化が前記所定の特異点へ到達したと判定された場合、前記テクスチャー構造の形成が完了したと判断する判断ステップとを有することを特徴とする終点検出方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
前のページに戻る
