特許
J-GLOBAL ID：201703013462392276

レジスト組成物

発明者：
増山 達郎

増山 達郎 について

, 
市川 幸司

市川 幸司 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-155637
公開番号（公開出願番号）：特開2017-045046
出願日： 2016年08月08日
公開日（公表日）： 2017年03月02日
要約：
【課題】良好なCD均一性(CDU)でレジストパターンを製造できるレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】酸不安定基を有する構造単位を含む樹脂(A1)と、フッ素原子を有し、かつ、塩基不安定基を2つ以上有する構造単位を有する樹脂(A2)と、酸発生剤と、カルボン酸オニウム塩とを含有するレジスト組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸不安定基を有する構造単位を含む樹脂(A1)と、フッ素原子を有し、かつ、塩基不安定基を2つ以上有する構造単位を有する樹脂(A2)と、酸発生剤と、カルボン酸オニウム塩とを含有するレジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  C08F 220/26
FI (4件)：
G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  C08F220/26
Fターム (51件)：
2H225AF11P ,  2H225AF16P ,  2H225AF25P ,  2H225AF35P ,  2H225AF67P ,  2H225AF71P ,  2H225AF99P ,  2H225AH17 ,  2H225AH19 ,  2H225AH38 ,  2H225AH49 ,  2H225AJ13 ,  2H225AJ53 ,  2H225AJ54 ,  2H225AJ59 ,  2H225AM22P ,  2H225AM27P ,  2H225AM99P ,  2H225AN05P ,  2H225AN38P ,  2H225AN39P ,  2H225AN45P ,  2H225AN54P ,  2H225AN67P ,  2H225BA02P ,  2H225BA26P ,  2H225CA12 ,  2H225CB09 ,  2H225CB10 ,  2H225CC03 ,  2H225CC15 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AL08T ,  4J100BA03R ,  4J100BA11S ,  4J100BA11T ,  4J100BA15T ,  4J100BC04Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC53S ,  4J100BC53T ,  4J100CA03 ,  4J100DA01 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100FA28 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (6件)
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