特許

J-GLOBAL ID：201203077400445650

レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法

発明者： 山本 慶 ,  飯塚 裕介 ,  渋谷 明規 ,  山口 修平
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (17件)： 蔵田 昌俊 ,  高倉 成男 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  福原 淑弘 ,  峰 隆司 ,  白根 俊郎 ,  村松 貞男 ,  野河 信久 ,  幸長 保次郎 ,  河野 直樹 ,  砂川 克 ,  井関 守三 ,  佐藤 立志 ,  岡田 貴志 ,  堀内 美保子 ,  竹内 将訓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-210645
公開番号（公開出願番号）：特開2012-093733
出願日： 2011年09月27日
公開日（公表日）： 2012年05月17日
要約：

【課題】ウォーターマーク欠陥を減少させると共に、良好な形状のレジストパターンを形成可能とするレジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂と、(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物であって、下記一般式(I)又はビス(アルキルスルホニル)イミドアニオン、トリス(アルキルスルホニル)メチドアニオンを有するオニウム塩と、(C)フッ素原子及びケイ素原子の少なくとも一方を含んだ樹脂と、(D)第1の溶剤と第2の溶剤とを含んだ混合溶剤であって、前記第1及び第2の溶剤の少なくとも一方は標準沸点が200°C以上である混合溶剤とを含有するレジスト組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂と、 (B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物であって、下記一般式(I)又は(II)により表される化合物と、 (C)フッ素原子及びケイ素原子の少なくとも一方を含んだ樹脂と、 (D)第1の溶剤と第2の溶剤とを含んだ混合溶剤であって、前記第1及び第2の溶剤の少なくとも一方は標準沸点が200°C以上である混合溶剤と を含有したレジスト組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/075 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C07C 309/17 ,  C07C 381/12

FI (7件)：

G03F7/004 503A ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/075 521 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C07C309/17 ,  C07C381/12

Fターム (66件)：

2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF19P ,  2H125AF20P ,  2H125AF21P ,  2H125AF22P ,  2H125AF36P ,  2H125AF37P ,  2H125AF38P ,  2H125AF45P ,  2H125AF70P ,  2H125AH03 ,  2H125AH14 ,  2H125AH15 ,  2H125AH16 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH22 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ14Y ,  2H125AJ43Y ,  2H125AJ63X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AM12P ,  2H125AM15P ,  2H125AM22P ,  2H125AM23P ,  2H125AM27P ,  2H125AM30P ,  2H125AM32P ,  2H125AM43P ,  2H125AM66P ,  2H125AM86P ,  2H125AM91P ,  2H125AM94P ,  2H125AM99P ,  2H125AN08P ,  2H125AN35P ,  2H125AN37P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN54P ,  2H125AN56P ,  2H125AN57P ,  2H125AN63P ,  2H125AN65P ,  2H125AN84P ,  2H125BA01P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125BA33P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125CD12P ,  2H125CD40 ,  2H125FA03 ,  4H006AA03 ,  4H006AB78

引用特許：

審査官引用 (8件)

• ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-247832   出願人：富士フイルム株式会社
• レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-291055   出願人：東京応化工業株式会社
• ポジ型感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-132546   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-044353   出願人：富士フイルム株式会社
• ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-356718   出願人：富士フイルム株式会社
• ラクトン含有化合物、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-001102   出願人：信越化学工業株式会社
• 液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-219717   出願人：富士フイルム株式会社
• 高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-243981   出願人：信越化学工業株式会社