特許
J-GLOBAL ID：201703014458118131

3次元形状計測装置及び3次元形状計測方法

発明者：
古川 亮

古川 亮 について

, 
川崎 洋

川崎 洋 について


出願人/特許権者：
公立大学法人広島市立大学

公立大学法人広島市立大学 について

, 
国立大学法人 鹿児島大学

国立大学法人 鹿児島大学 について


代理人 (3件)： 木村 満 ,  末次 渉 ,  末富 孝典
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-113925
公開番号（公開出願番号）：特開2017-217215
出願日： 2016年06月07日
公開日（公表日）： 2017年12月14日
要約：
【課題】計測対象の3次元形状を、あるいはその大きさを安定して計測する。【解決手段】線分の接続状態によって区別可能なノードとエッジから成るグラフから構成される2次元パターンを計測対象に投光し、計測対象に投光されたパターンを撮像する。撮像された画像と2次元パターンについて、対応計算部52Aは、撮像された画像と計測用パターンについて、エピポーラ拘束に基づいて対応の解の候補となるノードを選択し、解の候補同士のグラフの接続状態に基づいて、画像に含まれるパターンの誤りを解消し解の候補の中から正しい対応の解(対応するノード)を得る。形状出力部52Bは、上述のようにして、対応の解(対応するノード)からステレオ処理(光切断法)により計測対象の3次元形状を算出して出力する。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
線分の接続状態又はパターンの対称性によって区別可能な特徴を有するノードとエッジから成るグラフから構成される2次元パターンを計測対象に投光する投光部と、 前記計測対象に投光されたパターンを撮像する撮像部と、 前記撮像された画像と前記2次元パターンについて、エピポーラ拘束に基づいて互いに対応するノードの解の候補を選択し、前記解の候補同士のグラフでの接続状態に基づいて、前記画像に含まれるパターンの誤りを解消し前記解の候補の中から正しい対応の解を得る対応計算部と、 前記対応の解に基づいてステレオ処理により前記計測対象の3次元形状を算出して出力する形状出力部と、 を備える3次元形状計測装置。
IPC (3件)：
A61B 1/00 ,  A61B 1/04 ,  G02B 23/24
FI (5件)：
A61B1/00 300E ,  A61B1/00 334D ,  A61B1/04 370 ,  G02B23/24 C ,  G02B23/24 A
Fターム (12件)：
2H040BA15 ,  2H040CA11 ,  2H040CA22 ,  2H040CA27 ,  2H040DA51 ,  2H040GA02 ,  2H040GA11 ,  4C161FF43 ,  4C161GG15 ,  4C161HH52 ,  4C161HH53 ,  4C161SS21
引用特許：
審査官引用 (4件)
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