特許
J-GLOBAL ID：201703014559942536

水素精製デバイス及び水素精製デバイスを使用した水素精製システム

発明者：
芳村 智孝

芳村 智孝 について


出願人/特許権者：
株式会社堀場エステック

株式会社堀場エステック について


代理人 (2件)： 西村 竜平 ,  齊藤 真大
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-062589
公開番号（公開出願番号）：特開2017-189765
出願日： 2017年03月28日
公開日（公表日）： 2017年10月19日
要約：
【課題】製造が簡単で水素透過膜の耐圧性が高い水素精製デバイスを提供する。【解決手段】水素を選択的に透過する水素透過膜11を具備し、原料ガスを供給されて、前記水素透過膜11を透過した精製ガスが外部に流出する水素精製デバイス1であって、前記水素透過膜11を両面から挟んで支持する2つの多孔質支持体12と、内部に形成された空間において原料ガスと前記水素透過膜11とを反応させるケーシング13とを具備し、前記多孔質支持体12が前記ケーシング13内部に収容されており、前記多孔質支持体12の外縁E1よりも前記水素透過膜11の外縁E2が外側にあり、前記多孔質支持体12の外縁E1よりも外側にある前記水素透過膜11の周辺部111と前記ケーシング13とが気密に接合されたものとした。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
水素を選択的に透過する水素透過膜を具備し、原料ガスを供給されて、前記水素透過膜を透過した精製ガスが外部に流出する水素精製デバイスであって、 前記水素透過膜を両面から挟んで支持する2つの多孔質支持体と、 内部に形成された空間において前記原料ガスと前記水素透過膜とを反応させるケーシングとを具備し、 前記多孔質支持体が前記ケーシング内部に収容されており、前記多孔質支持体の外縁よりも前記水素透過膜の外縁が外側にあり、前記多孔質支持体の外縁よりも外側にある前記水素透過膜の周辺部と前記ケーシングとが気密に接合されていることを特徴とする水素精製デバイス。
IPC (5件)：
B01D 53/22 ,  B01D 63/00 ,  B01D 63/08 ,  B01D 71/02 ,  C01B 3/56
FI (6件)：
B01D53/22 ,  B01D63/00 500 ,  B01D63/00 510 ,  B01D63/08 ,  B01D71/02 500 ,  C01B3/56 Z
Fターム (25件)：
4D006GA41 ,  4D006HA41 ,  4D006JA03A ,  4D006JA03C ,  4D006JA15A ,  4D006JA19A ,  4D006JA22A ,  4D006JA22C ,  4D006JA25A ,  4D006JA25C ,  4D006JA25Z ,  4D006JA51Z ,  4D006MA03 ,  4D006MA31 ,  4D006MB04 ,  4D006MB19 ,  4D006MC02 ,  4D006MC03 ,  4D006PA04 ,  4D006PB66 ,  4D006PC69 ,  4G140FA06 ,  4G140FB09 ,  4G140FC01 ,  4G140FE01
引用特許：
審査官引用 (5件)
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