特許
J-GLOBAL ID：201703015718250175
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-156435
公開番号（公開出願番号）：特開2013-041269
特許番号：特許第6039278号
出願日： 2012年07月12日
公開日（公表日）： 2013年02月28日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 式(I)で表される構造単位を有する樹脂、
アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂(但し、式(I)で表される構造単位を含まない)、及び
アルカリ現像液の作用により開裂する構造を有する酸発生剤を含有するレジスト組成物。
[式(I)中、
R1は、水素原子又はメチル基を表す。
A1は、炭素数1〜6のアルカンジイル基を表す。
A13は、フッ素原子を有する2価の炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基を表す。
X12は、*-CO-O-又は*-O-CO-を表し、*は、A13との結合手を表す。
A14は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜17の脂肪族炭化水素基を表す。]
IPC (5件)：
G03F 7/004 ( 200 6.01)
, G03F 7/039 ( 200 6.01)
, C08F 20/28 ( 200 6.01)
, C07C 309/17 ( 200 6.01)
, C07C 381/12 ( 200 6.01)
G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503 A
, G03F 7/039 601
, C08F 20/28
, C07C 309/17
, C07C 381/12
