特許
J-GLOBAL ID：201703017648524909
基板処理装置及び載置台
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
伊東 忠重
, 伊東 忠彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-048172
公開番号（公開出願番号）：特開2014-160790
特許番号：特許第6100564号
出願日： 2013年03月11日
公開日（公表日）： 2014年09月04日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 チャンバと、
前記チャンバ内に設けられ、基板を載置する載置台と、
高周波電力を印加する高周波電源と、
前記チャンバ内に所望のガスを供給するガス供給源と、備え、
前記載置台は、
冷媒を通す流路が形成された第1のセラミックスの基材と、
前記第1のセラミックスの基材の基板が載置される側の主面及び側面に形成された第1の導電層と、
前記第1の導電層上に積層され、載置された基板を静電吸着する静電チャックと、を有し、
前記流路の体積は、前記第1のセラミックスの基材の体積以上であり、
前記第1の導電層に印加された高周波電力により前記所望のガスからプラズマを生成し、該プラズマにより前記載置された基板をプラズマ処理する、
ことを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/683 ( 200 6.01)
, H01L 21/3065 ( 200 6.01)
H01L 21/68 R
, H01L 21/302 101 G
出願人引用 (14件)
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審査官引用 (14件)
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