特許
J-GLOBAL ID：201703018026266429
インプリントモールド用基板、マスクブランク、インプリントモールド用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及びインプリントモールドの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大塚 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-061843
公開番号（公開出願番号）：特開2017-175056
出願日： 2016年03月25日
公開日（公表日）： 2017年09月28日
要約：
【課題】基板の一主表面に台座構造を有し、その台座構造の側壁面に形成されるパターン形成用薄膜の剥離を抑制できるインプリントモールド用基板を提供する。【解決手段】対向する2つの主表面を備え、一方の主表面に台座構造5を有し、他方の主表面に凹部7を備えるインプリントモールド用基板10である。ここで、上記台座構造5は、転写面5aと側壁面5bとを備える。そして、上記側壁面5bは、一辺が5μmの四角形の内側領域で測定したときの表面粗さRqが0.3nm以上である。また、上記転写面5aは、一辺が5μmの四角形の内側領域で測定したときの表面粗さRqが0.25nm以下である。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
対向する2つの主表面を備え、一方の前記主表面に台座構造を有するインプリントモールド用基板であって、
前記台座構造は、転写面と側壁面とを備え、
前記側壁面は、一辺が5μmの四角形の内側領域で測定したときの表面粗さRqが0.3nm以上であり、
前記転写面は、一辺が5μmの四角形の内側領域で測定したときの表面粗さRqが0.25nm以下である
ことを特徴とするインプリントモールド用基板。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, B29C 59/02
, B29C 33/38
, G11B 5/84
H01L21/30 502D
, B29C59/02 B
, B29C33/38
, G11B5/84 Z
4F202AA44
, 4F202AF01
, 4F202AG05
, 4F202AH33
, 4F202AJ06
, 4F202AR20
, 4F202CA19
, 4F202CB01
, 4F202CB29
, 4F202CD24
, 4F202CK12
, 4F209AA44
, 4F209AF01
, 4F209AG05
, 4F209AH33
, 4F209AJ06
, 4F209AR20
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PC01
, 4F209PC05
, 4F209PN09
, 4F209PQ11
, 5D112GA00
, 5F146AA32
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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