イオン源および当該イオン源を備えたイオンビーム照射装置

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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-040562
公開番号（公開出願番号）：特開2014-170631
特許番号：特許第6083260号
出願日： 2013年03月01日
公開日（公表日）： 2014年09月18日
請求項（抜粋）：

【請求項1】高周波電源を用いてプラズマ室でプラズマを生成し、前記プラズマ室に隣接配置されて、前記プラズマ室と電気的に絶縁された複数枚の電極からなる引出電極系を用いて当該プラズマからイオンビームを引出すイオン源であって、クリーニング時には、前記プラズマ室内にクリーニング用のガスが導入されるとともに、前記高周波電源の一端が前記プラズマ室に導体接続されていて、前記プラズマ室と前記引出電極系を構成するいずれかの電極との間にはバイアス電源が接続されているイオン源。

IPC (3件)：