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J-GLOBAL ID：201802223402627474   整理番号：18A2161608

グラフェン被覆Cu(103)の表面構造

Surface structures of graphene covered Cu(103)

著者 (9件)： OGAWA Yui (NTT Corp., Kanagawa, JPN) ,  MURATA Yuya (Scuola Normale Superiore, Pisa, ITA) ,  SUZUKI Satoru (NTT Corp., Kanagawa, JPN) ,  SUZUKI Satoru (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN) ,  HIBINO Hiroki (NTT Corp., Kanagawa, JPN) ,  HIBINO Hiroki (Kwansei Gakuin Univ., Hyogo, JPN) ,  HEUN Stefan (Scuola Normale Superiore, Pisa, ITA) ,  TANIYASU Yoshitaka (NTT Corp., Kanagawa, JPN) ,  KUMAKURA Kazuhide (NTT Corp., Kanagawa, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 57  号： 10  ページ： 100301.1-100301.4  発行年： 2018年10月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Cu(103)上の化学蒸着(CVD)グラフェンの表面構造を研究した。グラフェン被覆Cu表面はCu[010]方向に平行な(103)ファセットを有し,その上に三角形パターンが形成された。対照的に,裸のCu表面はファセットを示さなかった。超高真空誘起表面における成長後の熱アニーリングは,Cu(103)ファセット上で表面を変化させた。成長後熱アニーリングによるCu表面の再組織化は,CVD成長グラフェンの格子歪と正孔ドーピングレベルの変化をもたらした。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *グラフェン ,  *被覆 ,  *銅 ,  *表面構造 ,  化学蒸着 ,  ファセット ,  焼なまし ,  再編成 ,  格子歪 ,  ドーピング
準シソーラス用語： ポストアニーリング ,  再組織化 ,  正孔ドーピング

分類 (2件)： 金属の表面構造  (BK15020P) ,  熱処理技術  (WC03020T)

引用文献 (24件)：

• X. Li, W. Cai, J. An, S. Kim, J. Nah, D. Yang, R. Piner, A. Velamakanni, I. Jung, E. Tutuc, S. K. Banerjee, L. Colombo, and R. S. Ruoff, Science 324, 1312 (2009).
• K. S. Kim, Y. Zhao, H. Jang, S. Y. Lee, J. M. Kim, K. S. Kim, J. H. Ahn, P. Kim, I. Y. Choi, and B. H. Hong, Nature 457, 706 (2009).
• C. Mattevi, H. Kim, and M. Chhowalla, J. Mater. Chem. 21, 3324 (2011).
• J. D. Wood, S. W. Schmucker, A. S. Lyons, E. Pop, and J. W. Lyding, Nano Lett. 11, 4547 (2011).
• A. T. Murdock, A. Koos, T. B. Britton, L. Hoube, T. Batten, T. Zhang, A. J. Wilkinson, R. E. Dunin-Borkowski, C. E. Lekka, and N. Grobert, ACS Nano 7, 1351 (2013).

タイトルに関連する用語 (3件)： グラフェン ,  Cu ,  表面構造