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J-GLOBAL ID：201802229770197890   整理番号：18A1330577

400kHzまでの高周波で動作するマイクロ秒パルスDC容量結合プラズマ化学蒸着システムを用いた水素化非晶質炭素膜の作製

Preparation of hydrogenated amorphous carbon films using a microsecond-pulsed DC capacitive-coupled plasma chemical vapor deposition system operated at high frequency up to 400 kHz

著者 (3件)： AL MAMUN Md Abdullah (Kochi Univ. Technol., Kochi, JPN) ,  FURUTA Hiroshi (Kochi Univ. Technol., Kochi, JPN) ,  HATTA Akimitsu (Kochi Univ. Technol., Kochi, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 57  号： 6S2  ページ： 06JF02.1-06JF02.8  発行年： 2018年06月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *プラズマ ,  *プラズマCVD ,  *水素化物 ,  *炭素材 ,  プラズマ診断 ,  *電流電圧特性 ,  発光スペクトル ,  スペクトルシフト ,  *パルスプラズマ ,  *容量結合プラズマ ,  *水素化アモルファス炭素 ,  *放電特性 ,  Ramanシフト ,  *RFプラズマ
準シソーラス用語： *高周波プラズマ

分類 (3件)： プラズマ診断  (BJ02090L) ,  炭素とその化合物  (YB02060D) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

引用文献 (40件)：

• J. Robertson, Mater. Sci. Eng. R 37, 129 (2002).
• A. Grill, Diamond Relat. Mater. 8, 428 (1999).
• J. Robertson, Jpn. J. Appl. Phys. 50, 01AF01 (2011).
• Y. Lifshitz, Diamond Relat. Mater. 8, 1659 (1999).
• S. Aisenberg and R. Chabot, J. Appl. Phys. 42, 2953 (1971).

タイトルに関連する用語 (10件)： 高周波 ,  マイクロ秒 ,  パルス ,  DC ,  容量結合プラズマ ,  化学蒸着 ,  水素化 ,  非晶質 ,  炭素膜 ,  作製